化学蒸着用原料及びその製造方法、並びに該化学蒸着用原料を用いて形成されるインジウムを含有する酸化物の膜の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：木下茂 , 澤田優子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-234819
公開番号（公開出願番号）：特開2018-090855
出願日： 2016年12月02日
公開日（公表日）： 2018年06月14日
要約：

【課題】化学蒸着(CVD:chemical vapor deposition)により、酸化インジウム薄膜を製造するための原料であって、長期間の保存が可能で、化学蒸着(CVD)を行うに際して、取り扱いが容易な化学蒸着用原料及びその製造方法を提供する。【解決手段】下記式(1)で表される化合物を主成分として含有し、可視光領域において500nm以上700nm以下の領域に吸収ピークを有する化学蒸着用原料。(式(1)中、Rは炭素原子数1〜4のアルキル基を表す。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(1)で表される化合物を主成分として含有し、可視光領域において500nm以上700nm以下の領域に吸収ピークを有する化学蒸着用原料。

IPC (4件)：

C23C 16/18 , C23C 16/40 , C30B 29/16 , H01B 13/00

FI (4件)：

C23C16/18 , C23C16/40 , C30B29/16 , H01B13/00 503B

Fターム (22件)：

4G077AA03 , 4G077AB01 , 4G077BB10 , 4G077DB08 , 4G077EC04 , 4G077EC09 , 4G077HA05 , 4G077TA04 , 4G077TB05 , 4G077TH01 , 4K030AA11 , 4K030AA14 , 4K030BA11 , 4K030BA42 , 4K030EA01 , 4K030EA03 , 4K030FA01 , 4K030FA10 , 4K030HA01 , 4K030LA12 , 5G323BA04 , 5G323BB03

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開平2-163930
特開平3-088324
有機銅錯体の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-078453 出願人：株式会社高純度化学研究所

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