特許
J-GLOBAL ID：201503045406313197
インジウムを含有する酸化膜及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
龍華国際特許業務法人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-554669
公開番号（公開出願番号）：特表2015-506416
出願日： 2013年01月28日
公開日（公表日）： 2015年03月02日
要約：
本願は、化学蒸着法または原子層蒸着法により形成したインジウム酸化物の膜またはインジウムを含有する酸化物の膜、及びこれを形成する方法に関し、常温で液体であるインジウム原料を用いた化学蒸着法または原子層蒸着法により、大面積の基材(substrate)、特に、ディスプレイ素子を製造するための基材にインジウムを含有する酸化物の膜を形成できる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
酸素-含有気体及び気体状態のインジウム化合物を基材に供給して反応させることを含む、インジウムを含有する酸化物の膜を形成する方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (17件)：
4K030AA11
, 4K030AA14
, 4K030AA18
, 4K030BA08
, 4K030BA11
, 4K030BA21
, 4K030BA42
, 4K030CA04
, 4K030CA06
, 4K030CA07
, 4K030CA12
, 4K030EA01
, 4K030EA03
, 4K030FA10
, 4K030HA01
, 4K030JA10
, 4K030LA18
