特許
J-GLOBAL ID：201803021009831048

レーザ・ビームと荷電粒子ビームの一致位置合せ方法

発明者：
マーカス・ストロー

マーカス・ストロー について

, 
マーク・エマーソン

マーク・エマーソン について


出願人/特許権者：
エフ・イ-・アイ・カンパニー

エフ・イ-・アイ・カンパニー について


代理人 (1件)： 雨貝 正彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-168166
公開番号（公開出願番号）：特開2014-054670
特許番号：特許第6275412号
出願日： 2013年08月13日
公開日（公表日）： 2014年03月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 真空室と、 前記真空室内で加工物を支持する加工物支持体と、 前記加工物に向かって導かれる荷電粒子ビームを生成する荷電粒子ビーム・システムと、 前記真空室内で前記加工物を処理するレーザ・ビームを生成するレーザ・ビーム・システムと、 前記レーザ・ビームが対物レンズの中心を通り、前記加工物のユーセントリック点に入射するように、前記レーザ・ビームの位置合せをするレーザ・ビーム位置合せシステムであり、第1のレーザ・ビーム位置合せ検出器を前記真空室内に有し、第2のレーザ・ビーム位置合せ検出器を前記真空室の外側に有するレーザ・ビーム位置合せシステムと を備えるマルチビーム・システム。
IPC (5件)：
B23K 26/042 ( 201 4.01) ,  H01J 37/317 ( 200 6.01) ,  H01J 37/28 ( 200 6.01) ,  B23K 26/12 ( 201 4.01) ,  B23K 26/36 ( 201 4.01)
FI (5件)：
B23K 26/042 ,  H01J 37/317 D ,  H01J 37/28 B ,  B23K 26/12 ,  B23K 26/36
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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