文献
J-GLOBAL ID:201902213037933656   整理番号:19A1328413

ガラス熱インプリント用Ni-Wナノ金型

Ni-W Nano Mold for Glass Thermal Imprint
著者 (5件):
資料名:
巻: 139  号:ページ: 644-647(J-STAGE)  発行年: 2019年 
JST資料番号: S0810A  ISSN: 0385-4221  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
0.5kHzから5kHzへのパルス電流周波数の増加はNi-W膜の亀裂を抑制した。さらに,膜厚は15μmから20μmに増加した。しかし,Ni-W膜のW含有量は約20at%で,パルス電流の周波数の影響を受けなかった。樹脂金型ではNi-W膜をは剥離した。しかし,Ni型では78μm厚のNi-W膜を析出できた。しかしながら,ピンホールはNi-Wモールドのモスアイ構造の頂点で発生した。ピンホールの発生の原因として,めっき中に発生する水素はNiマスタディスク上のモスアイの凹部に残っているので,凹部に残留する水素を防ぐ必要があると考えられる。(翻訳著者抄録)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

著者キーワード (8件):
分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
表面硬化熱処理  ,  めっき一般 
引用文献 (21件):
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る