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J-GLOBAL ID：201902235708661816   整理番号：19A2088108

赤外減衰全反射測定によるシリコンウエハにおける溶存酸素濃度の評価【JST・京大機械翻訳】

Evaluation of dissolved oxygen concentration in silicon wafers by measuring infrared attenuated total reflection

著者 (5件)： Usuki Kenshiro (Fukushima University, 1 Kanayagawa, Fukushima, Fukushima 960-1296 Japan) ,  Mochizuki Toshimitsu (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 2-2-9 Machiikedai, Koriyama, Fukushima 963-0298 Japan) ,  Tanahashi Katsuto (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 2-2-9 Machiikedai, Koriyama, Fukushima 963-0298 Japan) ,  Takato Hidetaka (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 2-2-9 Machiikedai, Koriyama, Fukushima 963-0298 Japan) ,  Yamaguchi Katsuhiko (Fukushima University, 1 Kanayagawa, Fukushima, Fukushima 960-1296 Japan)
資料名： AIP Conference Proceedings  (AIP Conference Proceedings)
巻： 2147  号： 1  ページ： 140012-140012-4  発行年： 2019年 
JST資料番号： D0071C  ISSN： 0094-243X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリコンウエハの溶存酸素濃度を,シリコンウエハの減衰全反射(ATR)スペクトルにおける溶存酸素の赤外吸収測定により評価し,透過ベース評価と比較した。ATRピーク高さとATRと透過の間の相関は,450±10μmへのウエハの両側の化学機械研磨後に著しく強かった。また,結果は,薄いシリコンウエハの酸素濃度の定量的評価が,適切な前処理によるATR測定によって行うことができることを示している。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： スペクトル ,  *赤外線 ,  前処理 ,  *溶存酸素 ,  化学機械研磨
準シソーラス用語： 定量的評価 ,  *酸素濃度 ,  赤外吸収 ,  *溶存酸素濃度 ,  *シリコンウエハ ,  *減衰全反射 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 機械的性質  (YH02022L) ,  生薬の薬理の基礎研究  (GX06020J) ,  充填剤,補強材  (YH05030J)

タイトルに関連する用語 (5件)： 赤外 ,  減衰全反射 ,  シリコンウエハ ,  溶存酸素濃度 ,  評価