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J-GLOBAL ID：201902237723929695   整理番号：19A1200186

触媒反応支援化学蒸着により作製したZnO薄膜の成長特性【JST・京大機械翻訳】

Growth characteristics of ZnO thin films produced via catalytic reaction-assisted chemical vapor deposition

著者 (5件)： Saito Taro (Department of Electrical, Electronics and Information Engineering, Nagaoka University of Technology, 1603-1 Kamitomioka, Nagaoka, Niigata 940-2188, Japan) ,  Iba Ryuta (Department of Electrical, Electronics and Information Engineering, Nagaoka University of Technology, 1603-1 Kamitomioka, Nagaoka, Niigata 940-2188, Japan) ,  Ono Shotaro (Department of Electrical, Electronics and Information Engineering, Nagaoka University of Technology, 1603-1 Kamitomioka, Nagaoka, Niigata 940-2188, Japan) ,  Imada Go (Department of Engineering, Niigata Institute of Technology, 1719 Hujihashi, Kashiwazaki, Niigata 945-1195, Japan) ,  Yasui Kanji (Department of Electrical, Electronics and Information Engineering, Nagaoka University of Technology, 1603-1 Kamitomioka, Nagaoka, Niigata 940-2188, Japan)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 37  号： 3  ページ： 030904-030904-3  発行年： 2019年 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 触媒反応支援化学蒸着に基づいて,酸化亜鉛(ZnO)膜の成長特性を調べた。このプロセスは,パルス化ガス供給と併せて,光学発光デバイスにおける潜在的応用のために,a-Al_2O_3上にZnO層を成長させるために使用された。ガス状ジメチル亜鉛を1または2msのパルス中で反応ゾーンに供給し,de Lavalノズルから使用した触媒的に生成した高エネルギーH2Oビームと反応させた。1msパルス幅の場合,堆積速度はパルス当たり0.18~0.19nmであった。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： パルス幅 ,  パルス化 ,  *化学蒸着 ,  パルス ,  *触媒 ,  堆積速度 ,  酸化亜鉛 ,  発光素子 ,  ZnOフィルム
準シソーラス用語： 高エネルギー , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (6件)： 触媒反応 ,  支援 ,  化学蒸着 ,  作製 ,  ZnO薄膜 ,  成長特性