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J-GLOBAL ID:201902240794870306   整理番号:19A0626053

InP基板上のII-VI化合物半導体光学素子のn側構造の研究【JST・京大機械翻訳】

Investigation of the n-side structures of II-VI compound semiconductor optical devices on InP substrates
著者 (3件):
資料名:
巻: 512  ページ: 96-99  発行年: 2019年 
JST資料番号: B0942A  ISSN: 0022-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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n-ドープZnCdSeとn-MgSe/ZnCdSe SLまたはn-MgZnCdSe層から成るn型試料を,分子線エピタクシーによりn-InP基板上に作製した。MgSe/ZnCdSe超格子(SL)とn-MgZnCdSe四元を,InP基板上のII-VI化合物半導体光学素子のnクラッド層材料として調べた。試料の注入電流密度対印加電圧(J-V)特性から,MgZnCdSe試料の印加電圧と抵抗率はSL試料のそれらより低いことが分かった。これはMgZnCdSeがnクラッド層により適していることを示している。一方,Schottky特性は両試料で観測され,n-ZnCdSeとSL又はMgZnCdSe層間の伝導帯ヘテロ障壁に起因した。Schottky特性は,II-VI光学素子の高い印加電圧を引き起こす。この問題(すなわち,Schottky特性)を解決するために,n-ZnCdSeとMgZnCdSe層の間の界面におけるZnCdSe/MgZnCdSe傾斜SLの組込みを提案した。J-V特性から,Schottky特性と印加電圧は傾斜SLを導入することにより減少することを確認した。このことは,傾斜SLがInP基板上のII-VI光学素子の印加電圧を下げるのに有効であることを示している。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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半導体薄膜 
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