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J-GLOBAL ID：201902241694823662   整理番号：19A0772611

緻密なオキシフッ化イットリウム(YOF)セラミックスの特徴付けとフッ素プラズマ曝露挙動

Characterization and Fluorine-Plasma Exposure Behavior of Dense Yttrium Oxyfluoride Ceramics

著者 (4件)： YOSHIDA Katsumi (TOKYO INST. TECHNOL.) ,  TSUNOURA Toru (TOKYO INST. TECHNOL.) ,  GUBAREVICH Anna (TOKYO INST. TECHNOL.) ,  YANO Toyohiko (TOKYO INST. TECHNOL.)
資料名： Bulletin of the Laboratory for Advanced Nuclear Energy  (Bulletin of the Laboratory for Advanced Nuclear Energy)
巻： 3  ページ： 34-36  発行年： 2019年02月 
JST資料番号： Y0332B  ISSN： 2432-8375  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ・YOFグリーン体は,18.4MPaの一軸圧力下で調製され,次に,YOF成形体を一方向に加圧しながらホットプレスにより焼結。
・フッ素プラズマ照射後のY₂O₃およびYOFセラミックスの断面SEM像では,Y₂O₃セラミックスの表面にわずかに濃いコントラストの変質層が観察。
・一方,YOFセラミックの表面は,フッ素プラズマ曝露後に変化無し。
・緻密なYOFセラミックスはホットプレスにより首尾よく製造され,それらの開放気孔率は1%未満。
・機械的性質および熱的性質は,半導体製造設備における耐プラズマ性材料として使用するのに十分。
・さらに,フッ素プラズマ暴露試験の結果から,YOFセラミックはY₂O₃セラミックよりも,フッ素プラズマ暴露に対して優れた耐性。

シソーラス用語： *緻密化 ,  *フッ化物 ,  *酸素化合物 ,  *イットリウム化合物 ,  セラミック ,  フッ素 ,  *プラズマ曝露 ,  圧縮 ,  圧縮試験 ,  加圧 ,  ホットプレス ,  酸化イットリウム ,  加工変質層 ,  形態 ,  比率 ,  機械的性質 ,  熱特性 ,  装置 ,  *照射損傷
準シソーラス用語： *オキシフッ化物 ,  グリーン体 ,  一軸圧縮 ,  ホットプレス焼結 ,  プラズマ照射 ,  表面形状 ,  開放気孔率 ,  熱的性質 ,  半導体製造装置 ,  *プラズマ損傷 ,  緻密

分類 (2件)： 固体-プラズマ相互作用  (BJ02033W) ,  セラミック材料  (HC03040A)

タイトルに関連する用語 (5件)： イットリウム ,  セラミックス ,  フッ素 ,  プラズマ曝露 ,  挙動