文献

J-GLOBAL ID：201902242487838556   整理番号：19A0489019

CMOS互換リソグラフィー技術によりシリコン中に作製した低損失マイクロ共振器フィルタ:設計と特性評価【JST・京大機械翻訳】

Low-Loss Micro-Resonator Filters Fabricated in Silicon by CMOS-Compatible Lithographic Techniques: Design and Characterization

著者 (12件)： Marchetti Riccardo (Department of Electrical, Computer, and Biomedical Engineering, Universita di Pavia, Pavia I-27100, Italy) ,  Vitali Valerio (Department of Electrical, Computer, and Biomedical Engineering, Universita di Pavia, Pavia I-27100, Italy) ,  Lacava Cosimo (Optoelectronics Research Centre, University of Southampton, Southampton SO17 1BJ, UK) ,  Cristiani Ilaria (Department of Electrical, Computer, and Biomedical Engineering, Universita di Pavia, Pavia I-27100, Italy) ,  Giuliani Guido (Department of Civil Engineering and Architecture, Universita di Pavia, Pavia I-27100, Italy) ,  Muffato Viviane (Photonic Department, CEA MINATEC Campus, Grenoble CEDEX F-38054, France) ,  Fournier Maryse (Photonic Department, CEA MINATEC Campus, Grenoble CEDEX F-38054, France) ,  Abrate Silvio (Istituto Superiore Mario Boella, Torino 10138, Italy) ,  Gaudino Roberto (Dipartimento di Elettronica e Telecomunicazioni, Politecnico di Torino, Torino 10129, Italy) ,  Temporiti Enrico (STMicroelectronics-Studio di Microelettronica, Via Ferrata 4, Pavia 27100, Italy) ,  Carroll Lee (Photonic Packaging Group, Tyndall National Institute, Lee Maltings Complex, Cork T12R5CP, Ireland) ,  Minzioni Paolo (Department of Electrical, Computer, and Biomedical Engineering, Universita di Pavia, Pavia I-27100, Italy)
資料名： Applied Sciences (Web)  (Applied Sciences (Web))
巻： 7  号： 2  ページ： 174  発行年： 2017年 
JST資料番号： U7135A  ISSN： 2076-3417  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光共振器は,同調可能なオンチップ光フィルタとして,Siフォトニック集積回路の開発のための基本的な構成要素である。特定の応用に従って変化する可能性のある特定のスペクトル形状に加えて,これらのデバイスからの極端に低い損失が重要な要件である。現在の最先端のデバイスにおいて,ほとんどの低損失フィルタは,アドホックリソグラフィーとエッチング技術を利用することによってのみ実証されており,Siフォトニック基礎において利用可能な標準CMOS(相補的金属-酸化物半導体)プロセスフローと互換性がない。本論文では,以前に検証されたリソグラフィーエッチ深さのみを用いて,1dB以下の挿入損失をもつ高性能光フィルタの実現を可能にするSOI(絶縁体上のシリコン)プラットフォーム上に作製した,高さが220nm以下のSi導波路に基づく光学マイクロ共振器の設計と最適化について述べた。Copyright 2019 The Author(s) All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 同調 ,  *キャラクタリゼーション ,  *ケイ素 ,  最適化 ,  エッチング ,  *リソグラフィー ,  *微小共振器 ,  光集積回路 ,  互換性 ,  *フィルタ ,  光学フィルタ ,  導波路 ,  スペクトル ,  挿入損
準シソーラス用語： オンチップ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： シリコンフォトニクス ,  マイクロリング ,  統合フィルタ ,  光損失 ,  光学部品 ,  集積導波路

分類 (1件)： 光デバイス一般  (BD06010L)

引用文献 (19件)：

• Lim, A.E.-J.; Song, J.; Fang, Q.; Li, C.; Tu, X.; Duan, N.; Chen, K.K.; Tern, R.P.-C.; Liow, T.-Y. Review of Silicon Photonics Foundry Efforts. IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron. 2014, 20, 405-416.
• Thomson, D.; Zilkie, A.; Bowers, J.E.; Komljenovic, T.; Reed, G.T.; Vivien, L.; Marris-Morini, D.; Cassan, E.; Virot, L.; Fédéli, J.-M.; et al. Roadmap on silicon photonics. J. Opt. 2016, 18.
• Xia, F.; Rooks, M.; Sekaric, L.; Vlasov, Y. Ultra-compact high order ring resonator filters using submicron silicon photonic wires for on-chip optical interconnects. Opt. Express 2007, 15, 11934-11941.
• Bogaerts, W.; De Heyn, P.; Van Vaerenbergh, T.; De Vos, K.; Kumar Selvaraja, S.; Claes, T.; Dumon, P.; Bienstman, P.; Van Thourhout, D.; Baets, R. Silicon microring resonators. Laser Photonics Rev. 2012, 6, 47-73.
• Reed, G.T.; Mashanovich, G.; Gardes, F.Y.; Thomson, D.J. Silicon optical modulators. Nat. Photonics 2010, 4, 518-526.

タイトルに関連する用語 (8件)： CMOS ,  リソグラフィー技術 ,  シリコン ,  作製 ,  低損失 ,  共振器フィルタ ,  設計 ,  特性評価