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J-GLOBAL ID：201902243450696867   整理番号：19A1098383

3産地のスギ挿し木苗の光合成活性とバイオマス配分に対するオゾン暴露の影響

著者 (10件)： 飛田博順 (森林総合研) ,  上野真義 (森林総合研) ,  深山貴文 (森林総合研) ,  伊豆田猛 (東京農工大) ,  矢崎健一 (森林総合研) ,  齋藤隆実 (森林総合研) ,  小笠真由美 (森林総合研) ,  内山憲太郎 (森林総合研) ,  松本麻子 (森林総合研) ,  北尾光俊 (森林総合研)
資料名： 日本生態学会大会講演要旨(Web)  (日本生態学会大会プログラム・要旨(Web))
巻： 66th  ページ： ROMBUNNO.P2-149 (WEB ONLY)  発行年： 2019年02月09日 
JST資料番号： U0517A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *スギ ,  光合成 ,  バイオマス ,  オゾン ,  揮発性有機化合物 ,  スーパーオキシドジスムターゼ ,  *系統発生 ,  *耐酸性 ,  植物成長 ,  分配 ,  化学刺激 ,  生体防御 ,  バイオマス分配 ,  抗酸化防御 ,  *耐オゾン性 ,  *異所的種分化 ,  植物生理
準シソーラス用語： Cryptomeria japonica ,  *耐オゾン ,  *地理的分化

分類 (1件)： 植物生理学一般  (EH02010Y)

タイトルに関連する用語 (8件)： 産地 ,  スギ ,  挿し木苗 ,  光合成活性 ,  バイオマス ,  配分 ,  オゾン ,  暴露