文献

J-GLOBAL ID：201902244294289030   整理番号：19A1122365

化学気相成長法によるMPc(CN)₈-M錯体生成とナノロッド成長モデル

著者 (3件)： 小柴康子 (神戸大 大学院工学研究科) ,  福島達也 (神戸大 大学院工学研究科) ,  石田謙司 (神戸大 大学院工学研究科)
資料名： Molecular Electronics and Bioelectronics  (Molecular Electronics and Bioelectronics)
巻： 30  号： 2  ページ： 108-111  発行年： 2019年05月20日 
JST資料番号： L3415A  ISSN： 2423-8805  CODEN： MOEBFM  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  錯体生成 ,  *ナノロッド ,  *金属フタロシアニン ,  薄膜成長 ,  示差熱分析 ,  熱重量分析 ,  銅錯体 ,  鉄錯体 ,  ニッケル錯体 ,  TG-DTA ,  芳香族ニトリル
準シソーラス用語： 化学気相成長法

分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (1件)： 1,2,4,5-テトラシアノベンゼン

引用文献 (13件)：

• M. Wang, X. Wang, P. Moni, A. Liu, D. H. Kim, W. J. Jo, H. Sojoudi, and K. K. Gleason: Adv. Mater., 29 (2017) 1604606.
• M. E. Alf, A. Asatekin, M. C. Barr, S. H. Baxamusa, H. Chelawat, G. Ozaydin-Ince, C. D. Petruczok, R. Sreenivasan, W. E. Tenhaeff, N. J. Trujillo, S. Vaddiraju, J. Xu, and K. K. Gleason: Adv. Mater., 22 (2010) 1993.
• A. M. Coclite, R. M. Howden, D. C. Borrelli , C. D. Petruczok, R. Yang, J. L. Yagüe, A. Ugur, N. Chen, S. Lee , W. J. Jo, A. Liu, X. Wang , and K. K. Gleason: Adv. Mater., 25 (2013) 5392 (2013).
• G. Ozaydin-Ince, A. M. Coclite, and K. K. Gleason: Rep. Prog. Phys., 75 (2012) 016501.
• R. J. F.-Finney, P. D. Haller, and M. Gupta: Macromolecules, 45 (2012) 165.

タイトルに関連する用語 (6件)： 化学気相成長法 ,  MPC ,  Cn ,  錯体生成 ,  ナノロッド ,  成長モデル