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J-GLOBAL ID：201902245655929118   整理番号：19A2619956

電子ビーム照射下におけるシリカガラスの構造変化解析

著者 (3件)： 多田和広 (富山工高専) ,  日比彗太 (富山工高専) ,  安田雅昭 (大阪府大)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 80th  ページ： ROMBUNNO.20p-PB2-3  発行年： 2019年09月04日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： はじめに ガラス,シリコン,樹脂などの様々な対象から加工することで得られるシリコンナノドットは,工学分野,分析化学分野,生命科学・医療分野など様々な分野において応用が期待されている.シリコンナノドットを作製する手法として,基材としてシリカガ...【本文一部表示】

シソーラス用語： 電子ビーム ,  *電子照射 ,  *石英ガラス ,  ナノ構造 ,  ケイ素 ,  計算機シミュレーション ,  原子-電子衝突 ,  変化 ,  *ナノドット ,  構造変化 ,  分子動力学シミュレーション ,  計算機利用 ,  利用
準シソーラス用語： シリカガラス

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  電子・陽電子との相互作用一般  (BK16051U)

タイトルに関連する用語 (3件)： 電子ビーム照射 ,  シリカガラス ,  解析