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J-GLOBAL ID：201902247233054832   整理番号：19A2344616

ライナーおよびバリアフリーNiAlメタライゼーション:TDDB信頼性と界面状態からの展望【JST・京大機械翻訳】

Liner- and barrier-free NiAl metallization: A perspective from TDDB reliability and interface status

著者 (5件)： Chen Linghan (Department of Materials Science, Tohoku University, Sendai 980-8579, Japan) ,  Ando Daisuke (Department of Materials Science, Tohoku University, Sendai 980-8579, Japan) ,  Sutou Yuji (Department of Materials Science, Tohoku University, Sendai 980-8579, Japan) ,  Yokogawa Shinji (The Info-Powered Energy System Research Center, The University of Electro-Communications, Chofu, Tokyo 182-8585, Japan) ,  Koike Junichi (Department of Materials Science, Tohoku University, Sendai 980-8579, Japan)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 497  ページ： Null  発行年： 2019年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,障壁層のないSiO_2上のNiAlの時間依存絶縁破壊(TDDB)信頼性を報告した。NiAlは,破壊時のCu/TaNと比較して優れたTDDB信頼性を示すことを示した(4200s対240s,200°Cで4MV/cm),および4MV/cm下での破壊活性化エネルギー(1.17eV対0.87eV)。さらにNiAlはNiAl/SiO_2界面で原子的に薄く自己制限のAl酸化物層を形成することが分かり,NiAlの大きな凝集エネルギーと共にこのAl酸化物層は優れた信頼性のための可能な起源であると考えられた。これらの結果は,ライナおよびバリアフリー相互接続材料としてのNiAlの大きな可能性を実証した。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 凝集エネルギー ,  絶縁破壊 ,  *表面準位 ,  *ライナ ,  酸化アルミニウム ,  *バリアフリー ,  相互接続 ,  *メタライゼーション ,  *信頼性 ,  *界面 ,  時間依存性 ,  活性化エネルギー
準シソーラス用語： 一酸化ケイ素 ,  バリア層 ,  *TDDB , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： NiAl ,  相互接続 ,  TDDB ,  界面

分類 (4件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  その他の無触媒反応  (CB06070U) ,  無電解めっき  (WC08024S) ,  その他の触媒  (CB06123Z)

タイトルに関連する用語 (6件)： ライナー ,  バリアフリー ,  メタライゼーション ,  TDDB ,  界面状態 ,  展望