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J-GLOBAL ID:201902247496244318   整理番号:19A2303969

超薄非晶質膜によるシリコン膜の熱電増強【JST・京大機械翻訳】

Thermoelectric Enhancement of Silicon Membranes by Ultrathin Amorphous Films
著者 (12件):
資料名:
巻: 11  号: 12  ページ: 12027-12031  発行年: 2019年 
JST資料番号: W2329A  ISSN: 1944-8244  CODEN: AAMICK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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超薄アルミニウム層の堆積により,シリコン膜の熱電性能指数(ZT)を増加させる簡単で低コストで大面積の方法を提案した。透過型電子顕微鏡は,シリコン基板上へのアルミニウムの短い堆積が,最近の理論的研究によると,フォノン波束を効率的に破壊する,極薄非晶質膜を有する表面を覆うことを示した。その結果,アルミニウム膜で被覆されたシリコン膜では30~40%低い熱伝導率が測定されたが,電気伝導率は影響されなかった。したがって,アルミニウム膜で被覆された膜において40~45%高いZT値を達成した。実用化を実証するために,この方法をシリコン膜ベースの熱電素子の性能を向上させ,42%の高い発電を測定するために適用した。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (4件):
分類
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酸化物薄膜  ,  固体デバイス製造技術一般  ,  太陽電池  ,  二次電池 
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
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