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J-GLOBAL ID：201902248461559589   整理番号：19A0491640

マルチスケール計算流体力学:薄膜太陽電池のPECVDへの方法論と応用【JST・京大機械翻訳】

Multiscale Computational Fluid Dynamics: Methodology and Application to PECVD of Thin Film Solar Cells

著者 (4件)： Crose Marquis (Department of Chemical and Biomolecular Engineering, University of California, Los Angeles, CA 90095, USA) ,  Tran Anh (Department of Chemical and Biomolecular Engineering, University of California, Los Angeles, CA 90095, USA) ,  Christofides Panagiotis D. (Department of Chemical and Biomolecular Engineering, University of California, Los Angeles, CA 90095, USA) ,  Christofides Panagiotis D. (Department of Electrical Engineering, University of California, Los Angeles, CA 90095, USA)
資料名： Coatings (Web)  (Coatings (Web))
巻： 7  号： 2  ページ： 22  発行年： 2017年 
JST資料番号： U7162A  ISSN： 2079-6412  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究は,薄膜太陽電池のプラズマ増強化学蒸着への応用によるマルチスケール計算流体力学(CFD)シミュレーションフレームワークの開発に焦点を当てた。巨視的なCFDモデルを提案し,これは2D軸対称反応器形状内のプラズマ化学と輸送現象を正確に再現できる。さらに,a-Si:H薄膜の表面で起こる複雑な相互作用を,薄膜成長を記述する新しい速度論的モンテカルロ法を用いたCFDシミュレーションと結合し,マルチスケールCFDモデルを導いた。このマルチスケールCFDモデルにより課された重要な計算課題により,気相メッシュと微視的薄膜成長プロセスの両方の離散化により処理時間を短縮することを可能にする並列計算戦略を提示した。最後に,多重スケールCFDモデルを,ウエハの半径を横切る非晶質シリコン膜の成長速度において20%以上の不均一性を明らかにする工業的に関連する操作条件でのPECVDプロセスに適用した。Copyright 2019 The Author(s) All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 並列演算 ,  *プラズマCVD ,  *薄膜 ,  形態 ,  非晶質 ,  二次元 ,  薄膜成長 ,  *計算流体力学 ,  反応器 ,  速度論 ,  相互作用 ,  輸送現象
準シソーラス用語： 離散化 ,  *薄膜太陽電池 ,  *マルチスケール , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： マルチスケールモデリング ,  プラズマ増強化学蒸着 ,  計算流体力学 ,  薄膜太陽電池 ,  並列コンピューティング

分類 (2件)： 太陽電池  (NC03084O) ,  半導体薄膜  (BK14040E)

引用文献 (41件)：

• Kern, W. Thin Film Processes II; Academic Press: New York, NY, USA, 1991.
• Kreiger, M.; Shonnard, D.; Pearce, J. Life cycle analysis of silane recycling in amorphous silicon-based solar photovoltaic manufacturing. Resour. Conserv. Recycl. 2013, 70, 44-49.
• Yang, C.; Smith, L.; Arthur, C.; Parsons, G. Stability of low-temperature amorphous silicon thin film transistors formed on glass and transparent plastic substrates. J. Vac. Sci. Technol. B 2000, 18, 683-689.
• Collins, D.; Strojwas, A.; White, D. A CFD Model for the PECVD of Silicon Nitride. IEEE Trans. Semicond. Manuf. 1994, 7, 176-183.
• Kim, Y.; Boo, J.; Hong, B.; Kim, Y. Effects of showerhead shapes on the flowfields in a RF-PECVD reactor. Surf. Coat. Technol. 2005, 193, 88-93.

タイトルに関連する用語 (5件)： マルチスケール ,  計算流体力学 ,  薄膜太陽電池 ,  PECVD ,  応用