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J-GLOBAL ID：201902254027347014   整理番号：19A2696535

薄膜金属ガラスを用いた小型容量圧力センサの作製【JST・京大機械翻訳】

Fabrication of Miniaturized Capacitive Pressure Sensor using Thin Film Metallic Glass

著者 (4件)： Uejima S. (Furo-cho, Chikusa, Nagoya university, Nagoya, 464-8603, Japan) ,  Oka C. (Furo-cho, Chikusa, Nagoya university, Nagoya, 464-8603, Japan) ,  Hata S. (Furo-cho, Chikusa, Nagoya university, Nagoya, 464-8603, Japan) ,  Sakurai J. (Furo-cho, Chikusa, Nagoya university, Nagoya, 464-8603, Japan)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2018  号： MHS  ページ： 1-5  発行年： 2018年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,MEMS容量圧力センサを小型化し,その感度を制御するためのダイヤフラムのプロセスを提案した。Ru_65Zr_30Al_5(at.%)薄膜金属ガラス(TFMG)を用いてマイクロダイヤフラムを作製した。Si基板上のスパッタしたままのTFMGを,真空中で5分間,315~440°Cでアニールした。アニーリング後,マイクロダイヤフラムを反応性イオンエッチングシステムを用いてSi基板をエッチングすることにより作製した。アニーリングのないダイヤフラムはドーム構造を有していたが,340°C以上でアニールしたダイヤフラムは平坦な構造を形成した。印加圧力に対するダイヤフラムのたわみはアニーリング温度に依存し,高温では減少した。このダイヤフラムを用いて圧力センサをモデル化した。圧力測定範囲と感度は,それぞれ340°Cと1800Paでアニールした場合に250Paと6.4~3pF/Paであり,440°Cでアニールした場合にはそれぞれ1800Paと8.1~4pF/Paであった。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ダイヤフラム ,  モデリング ,  *ガラス ,  *圧力センサ ,  小型化 ,  圧力測定 ,  MEMS ,  *金属薄膜 ,  高温 ,  たわみ ,  焼なまし ,  RIE【エッチング】
準シソーラス用語： アニーリング温度 ,  印加電圧 ,  シリコンウエハ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (4件)： 薄膜金属 ,  ガラス ,  圧力センサ ,  作製