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J-GLOBAL ID：201902258681333387   整理番号：19A1902453

JBX-9500fsとJBX-6300fsによる電子ビームリソグラフィの実用解

Practical Solutions in Electron Beam Lithography with the JBX-9500FS and the JBX-6300FS

著者 (4件)： TENNANT D. M. (Cornell NanoScale Sci. and Technol. Facility) ,  BANERJEE A. (Cornell NanoScale Sci. and Technol. Facility) ,  TREICHLER C. (Cornell NanoScale Sci. and Technol. Facility) ,  BLEIER A. R. (Cornell NanoScale Sci. and Technol. Facility)
資料名： JEOL News  (JEOL News)
巻： 54  号： 1  ページ： 28-34  発行年： 2019年07月 
JST資料番号： Y0015B  ISSN： 1349-6832  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： JEOL JBX-9500FSのような最先端の電子ビームリソグラフィ装置は,前世代のツールよりも高分解能,高速,高精度である。そのため,最新の電子ビームリソグラフィーシステムは,多くの新しい学際的プロジェクトのデバイスと構造をパターン化するための,研究開発施設において広く使用されている。しかし,経験豊富な実務家が知っているように,より困難なリソグラフィー応用のいくつかを解決しなければならない非常に重要な要素があり,それらの多くは特殊なソフトウェアでのパターンデータの生成および操作方法に関連する。本論文では,Cornell NanoScale Science and Technology Facility(CNF)におけるスタッフが実装したデータ中心のソリューションのいくつかを紹介し,現在利用可能なデータ操作をより自動化し,著者らの施設のユーザが著者らに提供した2つの特定の問題を解決する。1つの問題は,それらが通常滑らかになるような特徴がより小さくなると,リソグラフィーでパターン化された幾何学的形状の鮮鋭化に関連する。もう1つは,傾斜面または球面レンズのような三次元表面上のパターン形成法を説明する。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *電子ビームリソグラフィー ,  *ナノ構造 ,  *パターン形成 ,  科学技術 ,  レンズ ,  斜面 ,  研究開発 ,  高分解能 ,  三次元 ,  自動化 ,  専門化 ,  測定精度 ,  境界領域
準シソーラス用語： ナノスケール ,  球面レンズ ,  高精度

分類 (2件)： 電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (5件)：

• JETStream is made openly available by CNF at https://confluence.cornell.edu/pages/viewpage.action?pageId=336378904 and by John Treichler at https://drive.google.com/drive/folders/0BxNDiyrykU0reWlHZXRlSnZzd1U . Please credit CNF and John if used in your work.
• BEAMER v5.6.2 is a commercially available software product from GenISys GMBH, https://genisys-gmbh.com/web/products/beamer.html
• Vishva Ray, Yukinori Aida, Ryo Funakoshi, Hitoshi Kato, Stella W. Pang, J Vac Sci Technol B 30, 06F303 (2012).
• HSQ resist is a product of Dow Corning.
• Joel K. W. Yang and Karl K. Berggren, ′′Using high-contrast salty development of hydrogen silsesquioxane for sub-10-nm half-pitch lithography′′, J. Vac. Sci. Technol., B 25(6), 2007.

タイトルに関連する用語 (2件)： 電子ビームリソグラフィ ,  解