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J-GLOBAL ID：201902259156049393   整理番号：19A0510562

制御された透過率を有する深くエッチングしたMEMSスロットマイクロミラー【JST・京大機械翻訳】

Deeply-Etched MEMS Slotted Micromirrors With Controlled Transmittance

著者 (5件)： Othman Muhammad A. (Faculty of Engineering, Ain Shams University, Cairo, Egypt) ,  Sabry Yasser M. (Faculty of Engineering, Ain Shams University, Cairo, Egypt) ,  Nassar Ismail M. (Faculty of Engineering, Ain Shams University, Cairo, Egypt) ,  Sadek Mohamed (Si-Ware Systems, Cairo, Egypt) ,  Khalil Diaa A. (Faculty of Engineering, Ain Shams University, Cairo, Egypt)
資料名： IEEE Journal of Quantum Electronics  (IEEE Journal of Quantum Electronics)
巻： 53  号： 6  ページ： ROMBUNNO.5600108.1-8  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0432A  ISSN： 0018-9197  CODEN： IEJQA7  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,光学MEMS応用のための金属化スロットマイクロミラーの解析,製作,および特性化について報告する。Gaussビーム解析を用いた垂直スリットを持つマイクロミラーの透過率のスカラーモデルを開発し,閉形式表現を得た。詳細な有限差分時間領域シミュレーションをマイクロミラー透過率に対して行い,0~8の範囲のスリット幅対波長比に対する開発したモデルを偏光とベンチマークの効果を理解した。MEMSチップは,櫛駆動アクチュエータにより制御されたファイバ溝と可変スリットマイクロミラーから構成されている。チップは,100μmのデバイス層高さをもつシリコン-オン-絶縁体基板の深い反応性イオンエッチングを用いて作製した。アクチュエータの運動を光機械的技術を用いて特性化し,異なる入射偏光に対するマイクロミラーの透過率をスリット幅に対して抽出し,理論的予測と比較して良好な一致を示した。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ベンチマーク ,  スカラー ,  予測 ,  Gaussビーム ,  キャラクタリゼーション ,  アクチュエータ ,  波長 ,  *透過率 ,  絶縁体 ,  *MEMS ,  偏光 ,  RIE【エッチング】 ,  メタライゼーション
準シソーラス用語： 閉形式 ,  *マイクロミラー , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体レーザ  (BD04080W)

タイトルに関連する用語 (5件)： 透過率 ,  エッチング ,  MEMS ,  スロット ,  マイクロミラー