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J-GLOBAL ID：201902265148322667   整理番号：19A1522580

金属Bi/Niナノワイヤにおけるスピン輸送測定

Spin transport measurements in metallic Bi/Ni nanowires

著者 (10件)： TOKUDA Masashi (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  KABEYA Natsuki (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  IWASHITA Komei (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TANIGUCHI Hiroki (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  ARAKAWA Tomonori (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  YUE Di (Fudan Univ., Shanghai, CHN) ,  GONG Xinxin (Fudan Univ., Shanghai, CHN) ,  JIN Xiaofeng (Fudan Univ., Shanghai, CHN) ,  KOBAYASHI Kensuke (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  NIIMI Yasuhiro (Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名： Applied Physics Express  (Applied Physics Express)
巻： 12  号： 5  ページ： 053005.1-053005.4  発行年： 2019年05月 
JST資料番号： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ラテラルスピンバルブ構造において,スピン吸収法を用いて金属Bi/Niナノワイヤのスピン輸送測定を行った。Biは強いスピン-軌道相互作用を有するが,Bi/Niナノワイヤについて得られるスピンホール角は約0.008であった。スピンホール角の大きさと符号は,Bi不純物でのスキュー散乱が支配的であるCu-Bi合金のものよりもはるかに小さく反対であった。Bi/Niナノワイヤの推定スピン拡散長(3nm)は,Bi薄膜のそれよりも短く,これは,Bi/Ni二重層がBi単独とは異なるスピン特性を有することを示す。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ナノワイヤ ,  *ビスマス ,  *ニッケル ,  *輸送現象 ,  多層膜 ,  スピン-軌道相互作用 ,  散乱 ,  銅合金 ,  ビスマス合金 ,  スピン拡散 ,  拡散距離 ,  角度
準シソーラス用語： *金属ナノワイア ,  *スピン輸送 ,  スピンバルブ構造 ,  スキュー散乱 ,  拡散長 ,  スピンHall角

分類 (2件)： 金属結晶の磁性  (BM06040T) ,  電子輸送の一般理論  (BM03020C)

引用文献 (40件)：

• J. Sinova, S. O. Valenzuela, J. Wunderlich, C. H. Back, and T. Jungwirth, Rev. Mod. Phys. 87, 1213 (2015).
• A. Hoffmann, IEEE Trans. Magn. 49, 5172 (2013).
• Y. Niimi and Y. Otani, Rep. Prog. Phys. 78, 124501 (2015).
• Y. Otani, M. Shiraishi, A. Oiwa, E. Saitoh, and S. Murakami, Nat. Phys. 13, 829 (2017).
• Y. Niimi, Y. Kawanishi, D. H. Wei, C. Deranlot, H. X. Yang, M. Chshiev, T. Valet, A. Fert, and Y. Otani, Phys. Rev. Lett. 109, 156602 (2012).

タイトルに関連する用語 (4件)： Bi ,  Ni ,  ナノワイヤ ,  スピン輸送