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J-GLOBAL ID：201902267499917752   整理番号：19A0611362

Ti₄O₇膜における超伝導の高圧研究

High-pressure Study of Superconductivity in Ti₄O₇ Film

著者 (9件)： SEKIGUCHI Shuhei (Nihon Univ., Tokyo, JPN) ,  SHIRAISHI Takuya (Nihon Univ., Tokyo, JPN) ,  MIURA Kyota (Nihon Univ., Tokyo, JPN) ,  KAWASHIMA Chizuru (Nihon Univ., Tokyo, JPN) ,  YOSHIMATSU Kohei (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN) ,  OHTOMO Akira (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN) ,  OHTOMO Akira (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN) ,  KAMIOKA Hayato (Nihon Univ., Tokyo, JPN) ,  TAKAHASHI Hiroki (Nihon Univ., Tokyo, JPN)
資料名： Journal of the Physical Society of Japan  (Journal of the Physical Society of Japan)
巻： 88  号： 3  ページ： 035001.1-035001.2  発行年： 2019年03月15日 
JST資料番号： G0509A  ISSN： 0031-9015  CODEN： JUPSA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マグネリ相の絶縁体および超伝導エピタキシャルTi₄O₇の薄膜について,高圧での電気抵抗の測定を,最大2.5GPaで行った。絶縁膜の場合,金属-絶縁体転移温度は2GPaの圧力で,約150Kから180Kに大幅に上昇した。超伝導膜では,T_cは0.7K/GPaの割合で減少した。電子-フォノン相互作用は圧力下で歪みに敏感であり,重要な役割を果たすと考えられる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *酸化チタン ,  *超伝導薄膜 ,  *圧力効果 ,  結晶構造 ,  絶縁体 ,  層 ,  電気抵抗 ,  金属-絶縁体転移 ,  転移温度 ,  *電子-フォノン相互作用 ,  *歪
準シソーラス用語： Magneli相 ,  超伝導エピタキシャル層

分類 (1件)： 酸化物系超伝導体の物性  (BM04023I)

引用文献 (15件)：

• N. J. Doyle, J. K. Hulm, C. K. Jones, R. C. Miller, and A. Taylor, Phys. Lett. 26, 604 (1968).
• Y. Ueda, T. Tanaka, K. Kosuge, M. Ishikawa, and H. Yasuoka, J. Solid State Chem. 77, 401 (1988).
• M. Marezio, D. B. Mcwhan, P. D. Dernier, and J. P. Remeika, J. Solid State Chem. 6, 213 (1973).
• S. Lakkis, C. Schlenker, B. K. Chakraverty, R. Buder, and M. Marezio, Phys. Rev. B 14, 1429 (1976).
• M. Taguchi, A. Chainani, M. Matsunami, R. Eguchi, Y. Takata, M. Yabashi, K. Tamasaku, Y. Nishino, T. Ishikawa, S. Tsuda, S. Watanabe, C.-T. Chen, Y. Senba, H. Ohashi, K. Fujiwara, Y. Nakamura, H. Takagi, and S. Shin, Phys. Rev. Lett. 104, 106401 (2010).

タイトルに関連する用語 (3件)： 伝導 ,  高圧 ,  研究