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J-GLOBAL ID：201902269203802182   整理番号：19A2114672

ミストCVDによるAlTiO膜の合成とキャラクタリゼーション【JST・京大機械翻訳】

Synthesis and characterization of AlTiO films by mist-CVD

著者 (5件)： Yatabe Zenji (Kumamoto University, Japan) ,  Nishiyama Koshi (Kumamoto University, Japan) ,  Tsuda Takaaki (Kumamoto University, Japan) ,  Nishimura Kazuki (Kumamoto University, Japan) ,  Nakamura Yusui (Kumamoto Phoenics, Japan)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2019  号： CSW  ページ： 1  発行年： 2019年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高k誘電体アルミニウム酸化チタン(AlTiO,Al_2O_3およびTiO_2の合金)膜を,Al_2O_3およびTiO_2前駆体を用いて,ミスト化学蒸着(ミストCVD)によって得た。X線蛍光(XRF)研究により,Al_xTi_yO膜中のAlとTi比の原子組成比を検証した。X線回折(XRD)は,400°Cで堆積したAl_xTi_yO膜が非晶質相構造を有することを明らかにした。Al_xTi_yO膜の屈折率と質量密度がTi組成の増加と共に増加することを示した。X線光電子分光法(XPS)と紫外可視分光法からAl_xTi_yO膜のバンドギャップも推定した。Al_xTi_yO膜のバンドギャップはTi組成の増加と共に減少することが分かった。さらに,Al_2O_3およびTiO_2膜の得られた屈折率,質量密度およびバンドギャップは,ALDによって蒸着した高品質Al_2O_3およびTiO_2膜に対して報告されたものとすべて同等であり,それによって,より成熟したALDによって調製されたものとほとんど同じ特性を有する膜を合成するのに有効であることを実証した。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *チタン ,  蛍光 ,  X線 ,  合金 ,  *キャラクタリゼーション ,  屈折率 ,  化学蒸着 ,  酸化チタン ,  アルミニウム ,  前駆体 ,  X線光電子分光法 ,  X線回折 ,  *ミスト ,  バンドギャップ
準シソーラス用語： 紫外可視分光法 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (2件)： ミストCVD ,  キャラクタリゼーション