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J-GLOBAL ID：201902277569175491   整理番号：19A2437009

成膜温度を変化させて作製したYBa₂Cu₃O₇+BaHfO₃薄膜の磁束ピンニング特性

Deposition-Temperature Dependence of Vortex Pinning Property in YBa₂Cu₃O₇+BaHfO₃ Film

著者 (7件)： 堀出朋哉 (九州工業大学大学院工学研究院物質工学研究系) ,  鳥越健太 (九州工業大学大学院工学府物質工学専攻) ,  喜多隆介 (静岡大学総合科学技術研究科) ,  中村亮太 (九州工業大学大学院工学府物質工学専攻) ,  石丸学 (九州工業大学大学院工学研究院物質工学研究系) ,  淡路智 (東北大学金属材料研究所) ,  松本要 (九州工業大学大学院工学研究院物質工学研究系)
資料名： 日本金属学会誌  (Journal of the Japan Institute of Metals and Materials)
巻： 83  号： 9  ページ： 320-326(J-STAGE)  発行年： 2019年 
JST資料番号： G0023A  ISSN： 0021-4876  CODEN： NIKGAV  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 磁場中での臨界電流密度(J_c)の改善がYBa₂Cu₃O₇膜において求められ,プロセスパラメータがピンニングセンターを制御するために最適化されるべきである。本研究においては,ナノロッド構造を制御するためにYBa₂Cu₃O₇+BaHfO₃膜のパルスレーザ蒸着において蒸着温度を変化させ,そしてJ_cに及ぼすその影響を解析した。850°Cで蒸着したYBa₂Cu₃O₇+BaHfO₃膜は,40Kにおいて413GN/m³の高いピン止め力最大(F_p,max)を示し,一方,850°Cで蒸着したものの77KでのF_p,maxは900°Cで蒸着したYBa₂Cu₃O₇+BaHfO₃膜におけるものより小さかった。蒸着温度の低下と共に臨界温度および整合磁場は増加した。J_c値の臨界温度および整合磁場依存性がF_p,maxを支配するために,蒸着温度の上昇は高温でのF_p,maxを改善するのに効果的である。他方,整合磁場に一致するF_pシフトがF_p,maxに支配的であるため,低い蒸着温度は低温でのF_p,maxを改善する。このように,臨界温度および整合磁場に伴うJ_c変動を考慮し,ナノロッドを含むYBa₂Cu₃O₇膜のパルスレーザ蒸着において蒸着温度を設定すべきである。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *導体 ,  バリウム化合物 ,  ハフニウム化合物 ,  温度 ,  *パルスレーザ蒸着 ,  磁場 ,  セラミック膜 ,  磁束 ,  *ピン止め ,  臨界電流密度
準シソーラス用語： *YBCO超電導テープ線材 ,  ハフニウム酸塩 ,  蒸着温度

著者キーワード (10件)： YBa_2Cu_3O_7 ,  渦ピン止め ,  臨界電流密度 ,  ナノロッド ,  薄膜 ,  YBa_2Cu_3O_7 ,  渦ピン止め ,  臨界電流密度 ,  ナノロッド ,  薄膜

分類 (2件)： 酸化物系超伝導体の物性  (BM04023I) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (24件)：

• 1) X. Obradors and T. Puig: Supercond. Sci. Technol. 27 (2014) 044003.
• 2) V. Chepikov, N. Mineev, P. Degtyarenko, S. Lee, V. Petrykin, A. Ovcharov, A. Vasiliev, A. Kaul, V. Amelichev and A. Kamenev: Supercond. Sci. Technol. 30(2017) 124001.
• 3) V. Selvamanickam, M.H. Gharahcheshmeh, A. Xu, Y. Zhang and E. Galstyan: Supercond. Sci. Technol. 28 (2015) 072002.
• 4) J.L. MacManus-Driscoll, S.R. Foltyn, Q.X. Jia, H. Wang, A. Serquis, L. Civale, B. Maiorov, M.E. Hawley, M.P. Maley and D.E. Peterson: Nat. Mater. 3 (2004) 439-443.
• 5) A. Goyal, S. Kang, K.J. Leonard, P.M. Martin, A.A. Gapud, M. Varela, M. Paranthaman, A.O. Ijaduola, E.D. Specht, J.R. Thompson, D.K. Christen, S.J. Pennycook and F.A. List: Supercond. Sci. Technol. 18 (2005) 1533-1538.

タイトルに関連する用語 (4件)： 成膜温度 ,  作製 ,  薄膜 ,  磁束ピンニング