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J-GLOBAL ID：201902279532063651   整理番号：19A1413446

熱アニールした高χブロック共重合体薄膜における垂直ラメラの初期無秩序発展の直接その場観察【JST・京大機械翻訳】

Direct In Situ Observation of the Early-Stage Disorder-Order Evolution of Perpendicular Lamellae in Thermally Annealed High-χ Block Copolymer Thin Films

著者 (8件)： Chandra Alvin (Department of Materials Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1-S8-36 Ookayama, Meguro-ku, Tokyo, 152-8552, Japan) ,  Nakatani Ryuichi (Department of Materials Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1-S8-36 Ookayama, Meguro-ku, Tokyo, 152-8552, Japan) ,  Uchiyama Takumi (Department of Materials Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1-S8-36 Ookayama, Meguro-ku, Tokyo, 152-8552, Japan) ,  Seino Yuriko (Evolving Nano-process Infrastructure Development Center, 16-1 Onogawa, Tsukuba-shi, Ibaraki, 305-8569, Japan) ,  Sato Hironobu (Evolving Nano-process Infrastructure Development Center, 16-1 Onogawa, Tsukuba-shi, Ibaraki, 305-8569, Japan) ,  Kasahara Yusuke (Evolving Nano-process Infrastructure Development Center, 16-1 Onogawa, Tsukuba-shi, Ibaraki, 305-8569, Japan) ,  Azuma Tsukasa (Evolving Nano-process Infrastructure Development Center, 16-1 Onogawa, Tsukuba-shi, Ibaraki, 305-8569, Japan) ,  Hayakawa Teruaki (Department of Materials Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1-S8-36 Ookayama, Meguro-ku, Tokyo, 152-8552, Japan)
資料名： Advanced Materials Interfaces  (Advanced Materials Interfaces)
巻： 6  号： 11  ページ： e1801401  発行年： 2019年 
JST資料番号： W2484A  ISSN： 2196-7350  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 無秩序状態からの良く秩序化されたサブ10nmの垂直ラメラの発展を,その場原子間力顕微鏡,断面走査電子顕微鏡,およびすれすれ入射小角X線散乱を用いて直接的に記録した。ブロック共重合体(BCP)自己集合は極端に速い時間スケールで起こるので,垂直ラメラの成長を直接画像化することは困難なままである。初期段階の自己組織化の背後にある理解の欠如と準安定欠陥が熱力学的平衡近傍の速度論的挙動にどのように影響するかは,欠陥のない薄膜の実現を妨げる。広い温度範囲にわたり,高χ,垂直ラメラ形成BCP,ポリ(多面体オリゴマシルセスキオキサン)-ブロック-ポリ(2,2,2-トリフルオロエチルメタクリレートを用いたナノ構造の発展を特性化することにより,主に二乗平均平方根(rms)粗さにより特徴付けられる垂直ラメラの発展の三段階を観測した。ガラス転移温度(T_g)より低い温度では,膜は滑らかで不規則な表面(rms粗さ=0.352±0.006nm)を保持し,スピン被覆膜の特性を示した。T_gの近くで,スピノーダル分解とラメラの出現は,70°Cで増加し,82°Cで0.83nmでピークとなり,温度の上昇と共に急速に減衰する。T_g以上では,欠陥が連続的に消滅すると観察されるので,rms粗さは0.35±0.03nmに戻る。Copyright 2019 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *その場観察 ,  ガラス転移点 ,  速度論 ,  ナノ構造 ,  *薄膜 ,  キャラクタリゼーション ,  *ブロック共重合体 ,  自己集合 ,  高速度 ,  スピノーダル分解 ,  走査電子顕微鏡 ,  皮膜
準シソーラス用語： 斜入射小角X線散乱 ,  *無秩序性 ,  *熱アニーリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ブロック共重合体 ,  その場原子間力顕微鏡(AFM) ,  垂直ラメラ ,  自己集合 ,  スピノーダル分解

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (10件)： 熱アニール ,  高 ,  ブロック共重合体 ,  薄膜 ,  垂直 ,  ラメラ ,  初期 ,  無秩序 ,  発展 ,  その場観察