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J-GLOBAL ID:201902283554359803   整理番号:19A0367384

パルス状のHe/O2およびAr/O2マイクロプラズマを用いた市販高分子マイクロ流体チップの内部壁改質

Inner-wall modification of a commercial polymeric microfluidic chip using pulsed He/O2 and Ar/O2 μplasmas
著者 (3件):
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巻: 57  号: 12  ページ: 126202.1-126202.7  発行年: 2018年12月 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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パルス状のHe/O2およびAr/O2マイクロプラズマを用いて,市販の環状オレフィン共重合体マイクロ流体チップの後接合マイクロチャネルを改質した。6~8kVのスパーク電圧,およびデューティー比が0.2%の50Hzのパルス繰返し周波数の放電条件下でPtワイヤ電極を用いて,大気圧で340×86μm2の断面積をもつ60mm長のマイクロチャネルに渡り,マイクロプラズマを発生させた。発光分光法の結果から,電子励起温度はHeおよびArマイクロプラズマの両方に対して約2.1×104Kと見積もられ,原子状酸素ラジカルはO2ガス濃度の増加に伴って増加して生成された。プラズマ処理したマイクロチャネル内壁をX線光電子分光,走査電子顕微鏡,および原子間力顕微鏡で分析した。He/O2とAr/O2で処理したマイクロチャネル内壁の濡れ性は次の傾向を示した;濡れ性は,O2ガス濃度5~10%で未処理のマイクロチャネルの約4倍に増加し,そして,10%以上ではO2ガス濃度の増加と共に減少した。マイクロチャネルの濡れ特性は,内壁に導入された,-C-O-,C=O,C00Hのような酸素極性基,および,プラズマエッチングによって生じた表面粗さに依存することが分かった。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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固-液界面 
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