CD均一性改善のためのクリーンフォーカス,線量およびCD計測【JST・京大機械翻訳】

Lee Honggoo; Han Sangjun; Hong Minhyung; Kim Seungyoung; Lee Jieun; Lee DongYoung; Oh Eungryong; Choi Ahlin; Kim Nakyoon; Robinson John C.; Mengel Markus; Pablo Rovira; Yoo Sungchul; Getin Raphael; Choi Dongsub; Jeon Sanghuck

文献

J-GLOBAL ID：201902287624360576 整理番号：19A0900762

CD均一性改善のためのクリーンフォーカス,線量およびCD計測【JST・京大機械翻訳】

Clean focus, dose and CD metrology for CD uniformity improvement

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資料名：
巻： 10585 ページ： 105852A-9 発行年： 2018年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

リソグラフィプロセス制御ソリューションは,半導体産業が1xnmノードDRAMデバイス製造に向けて進むにつれて,より多くの実行可能性を必要とする。デバイスの特徴サイズを縮小するために,臨界次元(CD)の均一性は,必要なCD誤差収支を満たすための連続的な改善を必要とする。本研究では,焦点,線量,およびCDにおけるCD-SEM法を改善するために,光学測定技術を用いて研究した。重要な課題の一つは,デバイスパターンのスキャナ焦点を測定することである。スクリプトライン上の特別に設計されたマークに基づく焦点測定法があるが,このアプローチの一つの問題は,実際のデバイスパターンとは異なる可能性のあるスクリプトラインの焦点を報告することである。さらに,スクリプトラインマークは,複雑さを付加する付加的な設計とトラブルシューティングステップを必要とする。本研究では,デバイスパターンに直接焦点測定を行った。線量制御は通常,線量とCDの間の線形相関挙動を用いることに基づいている。CD測定のノイズは,例えばCD-SEMに基づき,精度に影響を及ぼすだけでなく,製品ウエハ上の線量シグネチャを監視することを困難にする。本研究では,信号対雑音比を改善するためにDUVスペクトル被覆率を特に向上させる光学計測システムを用いた直接線量計測結果を報告する。CD-SEMは,リソグラフィー段階後にCDを測定するためにしばしば用いられる。この測定法は,重要な特徴寸法を測定するための柔軟性だけでなく,容易なレシピセットアップの利点を有しているが,CD-SEM計測は限界があることを観察した。本研究では,光学的計測法を用いて,クリーンスキャナスリットの抽出と走査CD挙動を通して,場内CD均一性改善を実証した。COPYRIGHT SPIE. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

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固体デバイス製造技術一般

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