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J-GLOBAL ID：201902288886028047   整理番号：19A1373153

レーザ応用加工の最前線 フェムト秒レーザ還元直接描画法によるCu系微細プリンティング

著者 (1件)： 溝尻瑞枝 (長岡技科大)
資料名： 素形材
巻： 60  号： 6  ページ： 22-28  発行年： 2019年06月20日 
JST資料番号： S0824A  ISSN： 0910-1985  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・3Dプリンタ付加製造(3D-AM)での課題の一つであるナノ金属粒子の酸化を克服するために,酸化物を還元するプロセスを提案。
・本稿では金属酸化物のナノ粒子をフェムト秒レーザを用いて還元するとともに,3D-AMを実施するプロセスを紹介。
・フェムト秒レーザ還元直接描画法と各種金属酸化物ナノ粒子溶液について説明。
・本プロセスによるマイクロデバイス製造の事例を紹介。

シソーラス用語： *付加製造 ,  3Dプリンタ ,  *金属酸化物 ,  *レーザ照射 ,  ナノ粒子 ,  *還元 ,  パターン形成 ,  センサ ,  ミクロパターン形成
準シソーラス用語： 微細パターン形成

分類 (2件)： 圧粉,焼結  (WC02030X) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (9件)：

• Bongchul Kang, et al.: J. Phys. Chem. C, 115, 2011, 48, 23664.
• Daeho Lee, et al.: ACS NANO, 8, 2014, 10, 9807.
• Dongwoo Paeng, et al.: J. Phys. Chem. C., 119, 2015, 11, 6363.
• Mizue Mizoshiri, et al.: Appl. Phys. Express, 9, 2016, 036701.
• Mizue Mizoshiri, et al.: J. Appl. Phys., 55, 2016, 06GP05.

タイトルに関連する用語 (6件)： レーザ応用 ,  フェムト秒レーザ ,  還元 ,  直接描画 ,  Cu ,  プリンティング