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J-GLOBAL ID:201902290639063472   整理番号:19A0551866

SiC基板上のグラフェン成長の原子論的機構:新しい電荷移動結合次型ポテンシャルに基づく大規模分子動力学シミュレーション【JST・京大機械翻訳】

Atomistic mechanism of graphene growth on a SiC substrate: Large-scale molecular dynamics simulations based on a new charge-transfer bond-order type potential
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巻: 97  号: 12  ページ: 125411  発行年: 2018年 
JST資料番号: D0746A  ISSN: 2469-9950  CODEN: PRBMDO  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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炭化ケイ素の熱分解はグラフェンの製造のための有望なアプローチである。しかし,グラフェンの原子論的成長機構は不明のままである。本論文では,新しい電荷移動原子間ポテンシャルの開発について述べた。広い特性を持つ炭素結合は,提案したベクトル化結合次数項により再現できる。大規模熱分解シミュレーションにより,多環炭素構造の連続成長過程を観察することができた。アニーリングシミュレーションは,多環炭素構造が6員環のみを含む平坦なグラフェンに変換される原子過程を明らかにした。また,炭化ケイ素基板の表面原子は均一なグラフェン形成を促進することが分かった。Copyright 2019 The American Physical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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半導体結晶の電子構造 

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