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J-GLOBAL ID：201902291597193876   整理番号：19A2899682

レジスト自由電子ビームリソグラフィーにより作製したTiO_2導波路における光閉込め【JST・京大機械翻訳】

Optical confinement in TiO₂ waveguides fabricated by resist free electron beam lithography

著者 (5件)： Sangani L.D.Varma (Centre for Advanced Studies in Electronics Science and Technology, School of Physics, University of Hyderabad, Hyderabad 500046, Telangana, India) ,  Sangani L.D.Varma (Department of Condensed Matter Physics and Materials Science, Tata Institute of Fundamental Research, Mumbai, India) ,  Mohiddon Md. Ahamad (Department of Physics, SRM University, Delhi-NCR, Sonepat, India) ,  Rajaram Guruswamy (Centre for Advanced Studies in Electronics Science and Technology, School of Physics, University of Hyderabad, Hyderabad 500046, Telangana, India) ,  Krishna M. Ghanashyam (Centre for Advanced Studies in Electronics Science and Technology, School of Physics, University of Hyderabad, Hyderabad 500046, Telangana, India)
資料名： Optics & Laser Technology  (Optics & Laser Technology)
巻： 123  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0245B  ISSN： 0030-3992  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 新しいレジストフリー電子ビームリソグラフィー技術により作製したTiO_2導波路の性能を報告した。前駆体膜を最初に基板上にスピンコートし,続いて電子ビーム下でパターン形成と加熱を行った。適切な溶媒とアニーリングにおけるパターンのその後の溶解は,長方形のTiO_2導波路の形成をもたらす。導波路の寸法制御をリソグラフィー段階で達成した。位相と形態の研究は,導波路の高品質を確認した。TiO_2膜は,可視-NIR領域において,透過率>80%,屈折率1.95~2.00のアナターゼ構造で結晶化した。TiO_2導波路における光場閉込めを直交照明により調べ,続いて自己カスタム光学顕微鏡システムにより導波路構造を走査した。光損失は導波路を伝搬する光ビームの強度によって証明されるように比較的低い。それは,光を一つの導波路から近接に位置する別の導波路に結合することによりさらに低減される。この技術により,他の作製技術に匹敵する性能を持つ導波路を得ながら,ステップ数を低減できることを実証した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 焼なまし ,  位相 ,  *電子ビーム ,  屈折率 ,  *導波路 ,  スピンコーティング ,  光導波路 ,  *リソグラフィー ,  光子ビーム ,  アナターゼ ,  透過率 ,  *レジスト ,  *電子ビームリソグラフィー ,  結晶化 ,  パターン形成

著者キーワード (3件)： TiO_2 ,  光導波路 ,  Electronビームリソグラフィ

分類 (1件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H)

タイトルに関連する用語 (5件)： レジスト ,  電子ビームリソグラフィー ,  作製 ,  導波路 ,  光閉込め