特許

J-GLOBAL ID：201903002681978823

干渉計の光学的性能を最適化するための方法および装置

発明者： デック、レスリー エル.
出願人/特許権者： ザイゴ コーポレーション
代理人 (3件)： 恩田 誠 ,  恩田 博宣 ,  本田 淳
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-534632
公開番号（公開出願番号）：特表2019-500616
出願日： 2016年12月19日
公開日（公表日）： 2019年01月10日
要約：

方法が、装置を使用して、既知のトポグラフィを伴う1つまたは複数の表面特徴を有するアーチファクトの第1の表面場を装置の第1の表面で測定する工程を含む。方法は、1つまたは複数の表面特徴を含む第1の表面プロファイルの少なくとも一部に基づいて、第1の表面での第1のフォーカス・メトリックを求める工程を含む。方法は、第1の表面場を装置の第2の表面での第2の表面場にデジタルに変換する工程と、第2の表面場から第2の表面プロファイルを導出し、第2の表面プロファイルについての第2のフォーカス・メトリックを計算する工程と、2つ以上のフォーカス・メトリック値に基づいて、機器伝達関数を評価するための最適な表面を求める工程とを含む。方法は、最適な表面の表面場から導出された表面プロファイルの少なくとも一部に基づいて、装置の機器伝達関数を求める工程を含む。

請求項（抜粋）：

装置の機器伝達関数を決定する方法であって、 該装置を使用して、既知のトポグラフィを伴う1つまたは複数の表面特徴を有するアーチファクトの第1の表面場を該装置の第1の表面で測定する工程であって、該第1の表面場が、複素電磁場である、前記測定する工程と、 電子プロセッサを使用して、該第1の表面場から第1の表面プロファイルを導出する工程と、 該電子プロセッサを使用して、該第1の表面プロファイルから該1つまたは複数の表面特徴を識別する工程と、 該電子プロセッサを使用して、該表面特徴を含む該第1の表面プロファイルの少なくとも一部に基づいて、該第1の表面での第1のフォーカス・メトリックを決定する工程と、 該電子プロセッサを使用して、該第1の表面場を該装置の第2の表面での第2の表面場にデジタルに変換する工程であって、該第2の表面場が、複素電磁場である、前記変換する工程と、 該電子プロセッサを使用して、該第2の表面場から第2の表面プロファイルを導出し、該第2の表面プロファイルについての第2のフォーカス・メトリックを計算する工程であって、該第2のフォーカス・メトリックが、該第1のフォーカス・メトリックとは異なる値を有する、前記計算する工程と、 少なくとも該第1のフォーカス・メトリックおよび該第2のフォーカス・メトリックに基づいて、該機器伝達関数を評価するための最適な表面を決定する工程と、 該電子プロセッサを使用して、該最適な表面で得られた表面プロファイルの少なくとも一部に基づいて、該装置の機器伝達関数を決定する工程と、を備える方法。

IPC (1件)：

G01B 11/24

FI (1件)：

G01B11/24 D

Fターム (14件)：

2F065AA54 ,  2F065BB28 ,  2F065FF52 ,  2F065FF61 ,  2F065GG04 ,  2F065GG22 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL46 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ26 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ29

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 干渉測定装置、露光装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-213312   出願人：キヤノン株式会社
• 位置計測方法、及び該方法を用いる露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-017223   出願人：株式会社ニコン