特許
J-GLOBAL ID：201903003402729769

粒状材料中のダストを低減するためのシステムおよび方法

発明者：
ユン・ソクミン

ユン・ソクミン について

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パク・ソンス

パク・ソンス について

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キム・セミョン

キム・セミョン について

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チェ・ウォンジン

チェ・ウォンジン について

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ユン・ウジン

ユン・ウジン について


出願人/特許権者：
サンエディソン・セミコンダクター・リミテッド

サンエディソン・セミコンダクター・リミテッド について


代理人 (2件)： 山田 卓二 ,  中野 晴夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-208161
公開番号（公開出願番号）：特開2019-059666
出願日： 2018年11月05日
公開日（公表日）： 2019年04月18日
要約：
【課題】半導体ウエハおよびソーラーウエハの製造に使用する粒状多結晶シリコン中のダストを低減するシステムの提供。【解決手段】対向流の気体のための気体入口と、内部の中心軸から半径方向に外方への流れの乱流を増加させるための気体のクロスフローを提供する第2の気体入口とを含むキャニスタと、キャニスタの中に粒状多結晶シリコンを導入するためにキャニスタに接続された入口チューブと、入口チューブを通って導入された粒状多結晶シリコンを、キャニスタの少なくとも1つの壁に向かって半径方向に外方に分散させるために、入口に対向する位置のキャニスタの中に配置された複数の気体ポートを含む分配器と、を含むシステム。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
粒状多結晶シリコンからダストを除去する方法であって、この方法は、 分配器に対向して配置された入口からキャニスタに粒状多結晶シリコンの流れを導入する工程と、 分配器により半径方向に外方への流れに、流れの方向を変えることにより、粒状多結晶シリコンの流れを分配する工程と、 粒状多結晶シリコンからダストを分離するために、半径方向に外方への流れと接触するように、粒状多結晶シリコンの流れの方向に対向する方向に、気体の反対の流れを導入する工程とを含む方法。
IPC (2件)：
C01B 33/02 ,  B07B 4/02
FI (2件)：
C01B33/02 E ,  B07B4/02
Fターム (9件)：
4D021FA02 ,  4D021GA02 ,  4D021GA11 ,  4G072AA01 ,  4G072BB05 ,  4G072BB12 ,  4G072GG03 ,  4G072GG05 ,  4G072MM03
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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