特許
J-GLOBAL ID:201903004564601525

ガス処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人快友国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-096350
公開番号(公開出願番号):特開2019-198573
出願日: 2018年05月18日
公開日(公表日): 2019年11月21日
要約:
【課題】従来より簡略化されたガス処理装置を提供する。【解決手段】 ガス処理装置は、空気中の有害成分を除去する。ガス処理装置は、ガス処理装置外の空気が導入されるリアクタと、リアクタ内にラジカルを生成する電極部を備えている。電極部は、高電位側電極が電源に接続されているとともに、低電位側電極が接地されている。このガス処理装置では、高電位側電極と低電位側電極の間の距離をa1(m)とし、高電位側電極の電圧上昇率(dV/dt)をa2としたときに、電源が、下記式(1)を満足するように電極間に電圧を印加する。 a2/a1>1×1011・・・(1)【選択図】図1
請求項(抜粋):
空気中の有害成分を除去するガス処理装置であって、 ガス処理装置外の空気が導入されるリアクタと、 高電位側電極が電源に接続されているとともに低電位側電極が接地されており、リアクタ内にラジカルを生成する電極部と、 を備えており、 高電位側電極と低電位側電極の間の距離をa1(m)とし、高電位側電極の電圧上昇率(dV/dt)をa2としたときに、前記電源が、下記式(1)を満足するように電極間に電圧を印加するガス処理装置。 a2/a1>1×1011・・・(1)
IPC (3件):
A61L 9/22 ,  A61L 9/00 ,  H05H 1/24
FI (3件):
A61L9/22 ,  A61L9/00 C ,  H05H1/24
Fターム (24件):
2G084AA13 ,  2G084AA18 ,  2G084BB11 ,  2G084CC08 ,  2G084CC19 ,  2G084CC24 ,  2G084CC34 ,  2G084DD01 ,  2G084DD12 ,  2G084DD14 ,  2G084DD18 ,  2G084DD22 ,  2G084EE18 ,  4C180AA02 ,  4C180AA07 ,  4C180AA16 ,  4C180BB01 ,  4C180BB09 ,  4C180CA10 ,  4C180CC02 ,  4C180DD12 ,  4C180HH02 ,  4C180HH03 ,  4C180HH05
引用特許:
審査官引用 (6件)
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