特許
J-GLOBAL ID:201903005084240464

高解像度画像を提供する偏光ビームスプリッタプレート及びかかる偏光ビームスプリッタプレートを利用するシステム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 赤澤 太朗 ,  野村 和歌子 ,  佃 誠玄
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-527499
特許番号:特許第6560980号
出願日: 2013年08月09日
請求項(抜粋):
【請求項1】 偏光サブシステム用のフラットフィルムの製造方法であって、 多層光学フィルムを準備する工程と、 水溶液で覆われた、一時的な平面基板を準備する工程と、 前記多層光学フィルムの第1表面を前記一時的な平面基板の水溶液で覆われた面に着脱自在に取り付ける工程と、 永久基板を準備する工程であり、前記永久基板が、第1最外主表面と、前記第1最外主表面と20°未満の角度を形成する反対側の第2最外主表面と、を含む、工程と、 前記多層光学フィルムの第2表面を前記永久基板に取り付ける工程と、 前記多層光学フィルムを前記一時的な平面基板から取り外す工程と、を含み、 前記多層光学フィルムの前記第1表面を、前記一時的な平面基板の水溶液で覆われた面に着脱自在に取り付けた後、かつ前記一時的な平面基板から前記多層光学フィルムを取り外す前に、前記水溶液を蒸発させる工程をさらに含み、 前に前記一時的な平面基板に面していた多層光学フィルムの表面が、45nm未満の表面粗さRa又は80nm未満の表面粗さRqを有する、方法。
IPC (2件):
G02B 5/30 ( 200 6.01) ,  G02B 27/28 ( 200 6.01)
FI (2件):
G02B 5/30 ,  G02B 27/28 Z
引用特許:
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る