特許
J-GLOBAL ID:201903007568944531
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
中山 亨
, 坂元 徹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-118556
公開番号(公開出願番号):特開2019-019120
出願日: 2018年06月22日
公開日(公表日): 2019年02月07日
要約:
【課題】良好なラインエッジラフネス(LER)でレジストパターンを製造できる塩及び該塩を含有するレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表される塩。[式(I)中、Q1及びQ2は、互いに独立に、フッ素原子等を表す。R1及びR2は、互いに独立に、水素原子等を表す。zは、0〜6のいずれかの整数を表し、zが2以上のとき、複数のR1及びR2は互いに同一であっても異なってもよい。X1は、*-CO-O-、*-O-CO-、*-O-CO-O-又は-O-を表す。L1は、置換基を有していてもよい炭素数1〜36の2価の炭化水素基等を表す。R3及びR4は、それぞれ独立に、水素原子等を表す。L2は、単結合等を表す。R5は、置換基を有していてもよい炭素数6〜24の芳香族炭化水素基を表す。Z+は、有機カチオンを表す。]【選択図】なし
請求項(抜粋):
式(I)で表される塩。
IPC (6件):
C07C 309/17
, G03F 7/004
, G03F 7/039
, C07C 381/12
, C09K 3/00
, G03F 7/20
FI (6件):
C07C309/17
, G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
, C07C381/12
, C09K3/00 K
, G03F7/20 521
Fターム (40件):
2H197AA12
, 2H197AA24
, 2H197CA01
, 2H197CA08
, 2H197CA09
, 2H197CA10
, 2H197CE01
, 2H197CE10
, 2H197GA01
, 2H197HA03
, 2H197JA22
, 2H225AF11P
, 2H225AF16P
, 2H225AF24P
, 2H225AF25P
, 2H225AF48P
, 2H225AF53P
, 2H225AF56P
, 2H225AF57P
, 2H225AF67P
, 2H225AF68P
, 2H225AF69P
, 2H225AF71P
, 2H225AH17
, 2H225AH19
, 2H225AJ13
, 2H225AJ48
, 2H225AJ53
, 2H225AN38P
, 2H225AN39P
, 2H225AN54P
, 2H225BA02P
, 2H225BA26P
, 2H225CA12
, 2H225CB18
, 2H225CC03
, 2H225CC15
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB48
引用特許:
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