特許
J-GLOBAL ID：201403093005656960
パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いる電子デバイス及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
渡辺 望稔
, 三和 晴子
, 伊東 秀明
, 三橋 史生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-094548
公開番号（公開出願番号）：特開2014-215548
出願日： 2013年04月26日
公開日（公表日）： 2014年11月17日
要約：
【課題】本発明は、良好な形状のパターンが形成可能なパターン形成方法を提供することを目的とする。【解決手段】(ア)下記(A)及び(B)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、(A)酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、一般式(I)で表される化合物(イ)膜に活性光線又は放射線を照射する工程、及び(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて活性光線又は放射線を照射した膜を現像する工程、を有するパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(ア)下記(A)及び(B)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、
(A)酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂、
(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、一般式(I)で表される化合物
(イ)前記膜に活性光線又は放射線を照射する工程、及び
(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて前記活性光線又は放射線を照射した膜を現像する工程、を有するパターン形成方法。
IPC (6件)：
G03F 7/004
, G03F 7/038
, G03F 7/039
, G03F 7/32
, H01L 21/027
, C08F 220/18
G03F7/004 503A
, G03F7/038 601
, G03F7/039 601
, G03F7/32
, G03F7/004 501
, H01L21/30 502R
, C08F220/18
2H096AA25
, 2H096BA06
, 2H096EA05
, 2H096GA03
, 2H125AF11P
, 2H125AF12P
, 2H125AF16P
, 2H125AF17P
, 2H125AF18P
, 2H125AF19P
, 2H125AF21P
, 2H125AF27P
, 2H125AF29P
, 2H125AF38P
, 2H125AF41P
, 2H125AF70P
, 2H125AH04
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AH22
, 2H125AH23
, 2H125AH24
, 2H125AH29
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ64X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ68X
, 2H125AJ69X
, 2H125AM22P
, 2H125AM66P
, 2H125AM86P
, 2H125AM91P
, 2H125AM99P
, 2H125AN08P
, 2H125AN37P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN42P
, 2H125AN45P
, 2H125AN54P
, 2H125AN57P
, 2H125AN63P
, 2H125AN65P
, 2H125BA01P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125BA32P
, 2H125BA33P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC01
, 2H125CC15
, 2H125FA03
, 2H125FA05
, 2H196AA25
, 2H196BA06
, 2H196EA05
, 2H196GA03
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AL08S
, 4J100AL08T
, 4J100BA03S
, 4J100BA11P
, 4J100BC04Q
, 4J100BC04R
, 4J100BC09Q
, 4J100BC09R
, 4J100BC09S
, 4J100BC53P
, 4J100BC65S
, 4J100BC84T
, 4J100CA03
, 4J100CA06
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100JA38
