特許
J-GLOBAL ID：201203017682699575

塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

, 
坂本 宏

坂本 宏 について

, 
安江 崇裕

安江 崇裕 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-037200
公開番号（公開出願番号）：特開2012-193170
出願日： 2012年02月23日
公開日（公表日）： 2012年10月11日
要約：
【課題】優れたラインエッジラフネス(LER)を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される塩、この塩を含有する酸発生剤及びこの酸発生剤と樹脂とを含有するレジスト組成物。[式中、Q1及びQ2は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基;L1は2価の飽和炭化水素基を表し、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい;L2は、単結合又はアルカンジイル基を表し、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい;Yは、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基を表し、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよい;Z+は有機対イオンを表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される塩。
IPC (9件)：
C07C 309/12 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C07C 381/12 ,  C07C 309/17 ,  H01L 21/027 ,  C07D 305/06 ,  C07D 303/16 ,  C07D 327/04
FI (9件)：
C07C309/12 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  C07C381/12 ,  C07C309/17 ,  H01L21/30 502R ,  C07D305/06 ,  C07D303/16 ,  C07D327/04
Fターム (38件)：
2H125AE06P ,  2H125AE07P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH05 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AL11 ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4C023AA01 ,  4C048AA01 ,  4C048BB01 ,  4C048BC06 ,  4C048CC01 ,  4C048TT02 ,  4C048UU03 ,  4C048XX01 ,  4C048XX04 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB76 ,  4H006AB92
引用特許：
審査官引用 (27件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM