特許
J-GLOBAL ID:201903008086808394

コアシェル触媒の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 田中 光雄 ,  鮫島 睦 ,  岡部 博史 ,  稲葉 和久
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-029288
公開番号(公開出願番号):特開2017-144401
特許番号:特許第6562849号
出願日: 2016年02月18日
公開日(公表日): 2017年08月24日
請求項(抜粋):
【請求項1】コア金属の原料となるコア金属塩と錯化剤とを混合して、コア金属錯体溶液を生成するコア金属錯体溶液生成工程と、 シェル金属の原料となるシェル金属塩と錯化剤とを混合して、シェル金属錯体溶液を生成するシェル金属錯体溶液生成工程と、 炭素粉末と分散剤を混合して、炭素粉末分散溶液を生成する炭素粉末分散溶液生成工程と、 前記コア金属錯体溶液と前記炭素粉末分散溶液を混合し、還元剤を投入して、前記炭素粉末上に前記コア金属錯体を還元させる第1の還元工程と、 前記第1の還元工程によって得られたコア金属を含む溶液に前記シェル金属錯体溶液を投入後、還元剤を投入して、前記コア金属の表面に前記シェル金属錯体を還元させる第2の還元工程と、 前記第2の還元工程によって得られた前記コア金属及び前記シェル金属からなるコアシェル構造が担持された前記炭素粉末を所定の温度にて乾燥・焼成する焼成工程と、 を含み、 前記コア金属錯体溶液生成工程および前記シェル金属錯体溶液生成工程において、 前記コア金属の錯化剤と前記シェル金属錯体の錯化剤とを異なる材料を用いることで前記コア金属錯体の還元速度を前記シェル金属錯体の還元速度より大きく制御する、触媒製造方法。
IPC (11件):
B01J 23/89 ( 200 6.01) ,  B01J 37/02 ( 200 6.01) ,  B01J 37/16 ( 200 6.01) ,  B01J 37/03 ( 200 6.01) ,  B01J 37/08 ( 200 6.01) ,  B01J 35/08 ( 200 6.01) ,  H01M 4/88 ( 200 6.01) ,  H01M 4/86 ( 200 6.01) ,  H01M 4/90 ( 200 6.01) ,  H01M 4/92 ( 200 6.01) ,  H01M 8/10 ( 201 6.01)
FI (11件):
B01J 23/89 M ,  B01J 37/02 101 D ,  B01J 37/16 ,  B01J 37/03 A ,  B01J 37/08 ,  B01J 35/08 Z ,  H01M 4/88 K ,  H01M 4/86 M ,  H01M 4/90 M ,  H01M 4/92 ,  H01M 8/10
引用特許:
審査官引用 (6件)
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