コバルト用ケミカルメカニカルポリッシング方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人津国
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-175754
公開番号（公開出願番号）：特開2019-057710
出願日： 2018年09月20日
公開日（公表日）： 2019年04月11日
要約：

【課題】少なくともコバルト:窒化チタン除去速度選択比を改善するための、コバルト及び窒化チタンを含む基板のケミカルメカニカルポリッシングのための方法を提供すること。【解決手段】前記方法は、コバルト及び窒化チタンを含む基板を提供すること;初期成分として:水;酸化剤;アラニン又はその塩類;及び≦25nmの直径を伴うコロイダルシリカ砥粒を含む研磨組成物を提供すること;及び、研磨表面を有するケミカルメカニカル研磨パッドを提供すること;前記研磨パッドと前記基板との間の界面において動的接触を生じさせること;及び前記研磨組成物を前記研磨表面上に前記研磨パッドと前記基板との間の界面又はその近傍において施用することを含み、コバルトの一部が研磨除去され、その結果、コバルト:窒化チタン除去速度選択比が改善される。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

コバルトのケミカルメカニカルポリッシングの方法であって、コバルト及び窒化チタンを含む基板を提供すること、初期成分として: 水; 酸化剤; 少なくとも0.3重量%の量のアラニン又はその塩類; 25nm以下の平均粒径を有するコロイダルシリカ砥粒;及び任意選択的に、腐食防止剤; 任意選択的に、殺生物剤; 任意選択的に、pH調整剤; 任意選択的に、アニオン性ポリマー; 任意選択的に、界面活性剤; を含むケミカルメカニカル研磨組成物を提供すること、研磨表面を有するケミカルメカニカル研磨パッドを提供すること、前記ケミカルメカニカル研磨パッドと前記基板との間の界面において動的接触を生じさせること、及び前記ケミカルメカニカル研磨組成物を、前記ケミカルメカニカル研磨パッドの前記研磨表面上に、前記ケミカルメカニカル研磨パッドと前記基板との間の界面又はその近傍において施用し、前記コバルトの少なくとも一部を除去することを含む方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 , C09K 3/14 , B24B 37/00 , B24B 37/24

FI (7件)：

H01L21/304 622D , C09K3/14 550Z , C09K3/14 550D , H01L21/304 621D , H01L21/304 622F , B24B37/00 H , B24B37/24 C

Fターム (31件)：

3C158AA07 , 3C158AC04 , 3C158CA04 , 3C158DA12 , 3C158DA17 , 3C158EA11 , 3C158EB01 , 3C158ED10 , 3C158ED22 , 3C158ED24 , 3C158ED26 , 5F057AA28 , 5F057BA21 , 5F057BB22 , 5F057BB33 , 5F057CA12 , 5F057DA03 , 5F057EA01 , 5F057EA07 , 5F057EA16 , 5F057EA21 , 5F057EA22 , 5F057EA25 , 5F057EA26 , 5F057EA27 , 5F057EA29 , 5F057EA31 , 5F057EB03 , 5F057EB04 , 5F057EB06 , 5F057EB09

引用特許：

審査官引用 (2件)

コバルト含有基板の化学的機械的研磨(CMP)
公報種別：公開公報出願番号：特願2015-146415 出願人：エアプロダクツアンドケミカルズインコーポレイテッド
シリコン酸化膜上のシリコン窒化膜を選択的に研磨するための研磨組成物及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2015-076924 出願人：フジフイルムプラナーソリューションズエルエルシー

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