基板処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：小野新次郎 , 宮前徹 , 鐘ヶ江幸男 , 渡邊誠 , 奈良大地
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-096411
公開番号（公開出願番号）：特開2019-201178
出願日： 2018年05月18日
公開日（公表日）： 2019年11月21日
要約：

【課題】洗浄部において基板を搬送するための機構を洗浄する。【解決手段】基板研磨装置と、基板洗浄部と、を備える、基板処理装置であって、基板洗浄部は、洗浄モジュールと、洗浄部搬送機構と、を備え、洗浄部搬送機構は、ハンドと、ハンド開閉機構と、を備え、基板処理装置はさらに、ハンド洗浄部を備え、ハンド洗浄部は、ハンド洗浄槽と、洗浄液噴射機構と、を備えている、基板処理装置を開示する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板研磨装置と、前記基板研磨装置により研磨された基板を洗浄するための基板洗浄部と、を備える、基板処理装置であって、前記基板洗浄部は、基板の洗浄を実行するための洗浄モジュールと、前記基板洗浄部において基板を搬送するための洗浄部搬送機構と、を備え、前記洗浄部搬送機構は、基板を保持するためのハンドと、前記ハンドを開閉するハンド開閉機構と、を備え、前記基板処理装置はさらに、前記ハンドを洗浄するためのハンド洗浄部を備え、前記ハンド洗浄部は、前記洗浄モジュールの前記ハンドが開閉する方向の側部に設けられており、前記ハンドを収容することが可能であるハンド洗浄槽と、前記ハンドが前記ハンド洗浄槽に収容された場合に所定の位置に向かって洗浄液を噴射する、洗浄液噴射機構と、を備えている、基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 , H01L 21/677

FI (3件)：

H01L21/304 648A , H01L21/68 A , H01L21/304 622Q

Fターム (29件)：

5F057AA21 , 5F057BA11 , 5F057CA11 , 5F057CA25 , 5F057DA03 , 5F057DA38 , 5F057FA01 , 5F057FA32 , 5F057FA37 , 5F057GB02 , 5F057GB17 , 5F131AA02 , 5F131BA33 , 5F131BA37 , 5F131BB03 , 5F131CA13 , 5F131DA32 , 5F131DA33 , 5F131DA42 , 5F131GA14 , 5F157AA96 , 5F157AB47 , 5F157AC56 , 5F157BB11 , 5F157CC11 , 5F157CC31 , 5F157CD15 , 5F157CF42 , 5F157DC90

引用特許：

審査官引用 (2件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-152907 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
ティーチング装置およびティーチング方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2016-072546 出願人：株式会社荏原製作所

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