特許
J-GLOBAL ID:201903017071802771
YAG蛍光体用複合粒子、YAG蛍光体及び発光装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
特許業務法人アスフィ国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2019-110268
公開番号(公開出願番号):特開2019-147968
出願日: 2019年06月13日
公開日(公表日): 2019年09月05日
要約:
【課題】ボールミル法で得られる蛍光体以上の温度消光特性を有する蛍光体、及び該蛍光体の製造に好適なYAG蛍光体用複合粒子を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、Y、Alを含むと共に、Ce、Tb、Eu、Yb、Pr、Tm及びSmよりなる群から選択される少なくとも1種のドーパントを含むYAG蛍光体用複合粒子であって、(i)該複合粒子をEDX解析してYドメイン強度の面方向分布を調べて、Yドメイン強度が50%以上となる独立領域の面積に対する度数分布を求め、この度数分布において独立領域の累積度数が70%となる時の面積が120000nm2以下である、又は(ii)該複合粒子のESB画像から0〜255階調グレースケールヒストグラムを作成し、このヒストグラムにおいて170〜255階調の割合が全体の40面積%以上であることを特徴とするYAG蛍光体用複合粒子である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
Y、Alを含むと共に、Ce、Tb、Eu、Yb、Pr、Tm及びSmよりなる群から選択される少なくとも1種のドーパントを含むYAG蛍光体用複合粒子であって、
(i)該複合粒子をEDX解析してYドメイン強度の面方向分布を調べて、Yドメイン強度が50%以上となる独立領域の面積に対する度数分布を求め、この度数分布において独立領域の累積度数が70%となる時の面積が120000nm2以下である、又は
(ii)該複合粒子のESB画像から0〜255階調グレースケールヒストグラムを作成し、このヒストグラムにおいて170〜255階調の割合が全体の40面積%以上であることを特徴とするYAG蛍光体用複合粒子。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (12件):
4H001CA02
, 4H001CF02
, 4H001XA08
, 4H001XA13
, 4H001XA39
, 4H001YA58
, 4H001YA59
, 4H001YA62
, 4H001YA63
, 4H001YA65
, 4H001YA69
, 4H001YA70
引用特許:
引用文献:
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