特許
J-GLOBAL ID：201903017147660157

赤外線焼成装置及びこれを用いた電子部品の焼成方法

発明者：
大西 康弘

大西 康弘 について

, 
指宿 貞幸

指宿 貞幸 について


出願人/特許権者：
株式会社米倉製作所

株式会社米倉製作所 について

, 
DiV株式会社

DiV株式会社 について


代理人 (2件)： 北村 光司 ,  高尾 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-241548
公開番号（公開出願番号）：特開2019-120487
出願日： 2018年12月25日
公開日（公表日）： 2019年07月22日
要約：
【課題】焼成の際の温度プロファイルを簡単に調整可能で大量の焼成物をバッチ処理できながら、供給されるガス雰囲気も焼成物に対して均一に維持することの可能な赤外線焼成装置及びこれを用いた電子部品の焼成方法を提供すること。【解決手段】開口部を開閉蓋により開閉可能で内部空間を密閉可能な炉室と、焼成物を載置し開口部から出し入れ可能な焼成物載置部34と、赤外線により焼成物を加熱するヒーターランプ31と、炉室にガスを供給可能なガス供給口30と、炉室からガスを排気可能なガス排気口35とを備える。炉室の炉壁はヒーターランプ31の赤外線光を集めて焼成物載置部34に照射する。焼成物載置部34は幅広のトレー34である。ガス供給口30はトレー34の上部の複数個所からトレー34上に向かってガスを流下させる。ガス排気口35,35はトレー34の両横側に設けられて流下したガスを排気する。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
開口部を開閉蓋により開閉可能で内部空間を密閉可能な炉室と、焼成物を載置し開口部から出し入れ可能な焼成物載置部と、赤外線により焼成物を加熱するヒーターランプと、前記炉室にガスを供給可能なガス供給口と、前記炉室からガスを排気可能なガス排気口とを備え、前記炉室の炉壁は前記ヒーターランプの赤外線光を集めて前記焼成物載置部に照射する赤外線焼成装置であって、 前記焼成物載置部は幅広のトレーであって、 前記ガス供給口は前記トレーの上部の複数個所から前記トレー上に向かってガスを流下させるものであり、前記ガス排気口は前記トレーの両横側に設けられて前記流下したガスを排気するものである赤外線焼成装置。
IPC (6件)：
F27D 11/02 ,  F27D 7/02 ,  F27D 21/02 ,  F27B 17/00 ,  F27D 3/12 ,  H01G 13/00
FI (6件)：
F27D11/02 C ,  F27D7/02 Z ,  F27D21/02 ,  F27B17/00 C ,  F27D3/12 S ,  H01G13/00 391E
Fターム (42件)：
4K055AA05 ,  4K055HA02 ,  4K055HA13 ,  4K055HA25 ,  4K055HA27 ,  4K056AA11 ,  4K056BA02 ,  4K056BB06 ,  4K056BC01 ,  4K056CA18 ,  4K056FA03 ,  4K056FA12 ,  4K056FA23 ,  4K063AA06 ,  4K063AA07 ,  4K063AA12 ,  4K063AA15 ,  4K063BA12 ,  4K063CA03 ,  4K063DA05 ,  4K063DA13 ,  4K063DA15 ,  4K063FA07 ,  4K063FA13 ,  5E082BC11 ,  5E082BC14 ,  5E082BC38 ,  5E082EE04 ,  5E082EE23 ,  5E082EE26 ,  5E082EE35 ,  5E082FG04 ,  5E082FG26 ,  5E082FG46 ,  5E082FG54 ,  5E082GG10 ,  5E082GG28 ,  5E082KK01 ,  5E082LL02 ,  5E082MM07 ,  5E082MM11 ,  5E082MM24
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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