特許
J-GLOBAL ID:201903019167384590
荷電粒子ビーム装置、荷電粒子ビーム影響装置、および荷電粒子ビーム装置を動作させる方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (10件):
田中 伸一郎
, 弟子丸 健
, ▲吉▼田 和彦
, 大塚 文昭
, 西島 孝喜
, 須田 洋之
, 上杉 浩
, 近藤 直樹
, 那須 威夫
, 鈴木 信彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-132008
公開番号(公開出願番号):特開2019-053976
出願日: 2018年07月12日
公開日(公表日): 2019年04月04日
要約:
【課題】高いスループットの荷電粒子ビーム装置を提供する。【解決手段】荷電粒子ビーム装置100は、光軸Aに沿って伝播する荷電粒子ビーム105を生成するように構成されたビーム源110と、荷電粒子ビーム105から第1の数のビームレット135を生じさせるように構成された第1の数の開孔125を有する開孔装置120とを含み、第1の数は5以上であり、開孔125は、光軸A周りで輪状線上に、輪状線の接線に対する開孔125の垂線が均等に隔置されるように配置される。荷電粒子ビーム装置100は、ビームレット135に個々に影響を及ぼすように構成された静電多極装置をさらに含む。【選択図】図1
請求項(抜粋):
光軸(A)に沿って伝播する荷電粒子ビーム(105)を生成するように構成されたビーム源(110)と、
前記荷電粒子ビーム(105)から第1の数のビームレット(135)を生じさせるように構成された第1の数の開孔(125)を有する開孔装置(120、220)であって、前記第1の数が5以上であり、前記開孔(125)が、前記光軸(A)周りで輪状線(126)上に、前記輪状線(126)の接線(136)に対する前記開孔(125)の垂線(128)が均等に隔置されるように配置される開孔装置(120、220)と、
前記ビームレット(135)に個々に影響を及ぼすように構成された静電多極装置(150、250)と
を備える荷電粒子ビーム装置(100)。
IPC (4件):
H01J 37/28
, H01J 37/09
, H01J 37/244
, H01J 37/22
FI (4件):
H01J37/28 B
, H01J37/09 A
, H01J37/244
, H01J37/22 502B
Fターム (6件):
5C033BB01
, 5C033BB10
, 5C033FF01
, 5C033FF10
, 5C033NN01
, 5C033NN02
引用特許:
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