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J-GLOBAL ID：202002212750312153   整理番号：20A0176197

ブラックマトリックス(BM)レジストのリソグラフィー特性の研究

Study of Lithograph Characteristics of Black Matrix (BM) Resist

著者 (6件)： Sekiguchi Atsushi (Litho Tech Japan Corp.) ,  Sekiguchi Atsushi (Ritsumeikan University) ,  Nishino Tomoki (Litho Tech Japan Corp.) ,  Minami Hiroko (Ritsumeikan University) ,  Matsumoto Yoko (Ritsumeikan University) ,  Kai Yan (ShenZhen RongDa Photosensitive Science & Technology Co., Ltd.)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology (Web)  (Journal of Photopolymer Science and Technology (Web))
巻： 32  号： 4  ページ： 677-684(J-STAGE)  発行年： 2019年 
JST資料番号： U2132A  ISSN： 1349-6336  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ディスプレイ用のカラーフィルタ(CF)は,薄いガラス基板上に形成されたブラックマトリックス(BM)フィルムのパターン上に堆積された,赤(R),緑(G),および青(B)の光透過性のカラーレジストからなる。BMは光漏れを防止し,黒色を生成し,マトリックスの隣接画素におけるカラーレジストの混合を防止する。またフィルタはITO(透明電極)フィルムを形成する構造を持ち,TFTアレイ基板の共通電極として機能する。BMレジストは光漏れを防ぐために高い光学密度(OD)を有する必要がある。大型パネルの高スループット生産を可能にするために,一般的に製造目標はパネルのユニットコストの低減と高感度パネル設計を確実にすることである。近年,8Kと16Kの技術の出現はより高い分解能に対する要求を生み出し,次いでより大きな分解能とODを達成することができるより薄いフィルムに対する要求を駆動している。したがって,今やBMレジストの現像は最も高い技術基準を満たす必要がある。これらの問題への対応には,BMリソグラフィー特性の識別が関与する。第一段階として,BMレジストのリソグラフィー特性,特に現像特性に焦点を当てた。しかし,従来の現像モニタではBMレジストの現像率の測定は困難である。ここでは,QCM法に基づく開発モニタによって行った解析について報告する。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： カラーフィルタ ,  薄膜トランジスタ ,  吸光度 ,  化学分析 ,  現像 ,  速度 ,  レジスト ,  計算機シミュレーション ,  *リソグラフィー ,  マトリックス【母体】 ,  黒 ,  色 ,  電極 ,  分析機器 ,  フォトマスク
準シソーラス用語： QCM法 ,  ブラックマトリクス ,  リソグラフィーシミュレーション ,  レジスト現像 ,  現像速度 ,  光学密度 ,  水晶振動子微小天秤法 ,  カラーレジスト ,  カラー ,  ITO電極 ,  レジスト現像アナライザ ,  アナライザ

著者キーワード (7件)： 黒色行列 ,  カラーフィルタ ,  TFT基板 ,  OD ,  QCM法 ,  開発速度測定 ,  リソグラフィーシミュレーション

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (12件)：

• 1. M. Arihara, J. Print. Sci. Technol., 49 (2012) 101 (in Japanese).
• 2. M. Shida and T. Kato, Monthly Display, 10 (2006) 31.
• 3. M. Shida, LCD Components/Materials Outlook, (2009) 96 (in Japanese).
• 4. A. Sekiguchi, Y. Minami, and T. Matsuzawa, Electron. Commun. Jpn., Part II, 79 (1996) 51.
• 5. A. Sekiguchi, M. Isono, Y. Kono, and Y. Sensu, J. Photopolym. Sci. Technol., 17 (2004) 107.

タイトルに関連する用語 (4件)： ブラックマトリックス ,  レジスト ,  リソグラフィー ,  研究