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J-GLOBAL ID:202002216337517961   整理番号:20A0785073

銀を用いたフレキシブルAlドープZnO/Ag/AlドープZnO透明導電膜の特性改善【JST・京大機械翻訳】

Improvement of characteristics of flexible Al-doped ZnO/Ag/Al-doped ZnO transparent conductive film using silver
著者 (4件):
資料名:
巻: 38  号:ページ: 022205-022205-7  発行年: 2020年 
JST資料番号: E0974A  ISSN: 2166-2746  CODEN: JVTBD9  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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近年,フレキシブルデバイスに応用できる透明導電性酸化物(TCO)膜が注目されている。TCOの中で,酸化インジウムスズ(ITO)は頻繁に使用されているが,ITOはまれな金属Inを含み,柔軟ではない。従って,ITOの代替材料としてのAlドープZnO(AZO)透明導電膜に焦点を当てた。柔軟な電極を調製するために,ポリエチレンナフタレート(PEN)基板上に膜を調製した。ペン基板は熱に敏感であり,低温で堆積しなければならない。しかし,低温でのAZO膜形成の伝導率を改善する限界がある。したがって,AZO/Ag/AZO多層透明導電膜に焦点を合わせた。AZO層をRFマグネトロンスパッタリングにより蒸着し,Ag層を電子ビーム蒸着により蒸着した。電気的および光学的特性を,AZOおよびAg堆積中の堆積条件を変化させて評価した。したがって,Ag層の厚さが変化したとき,最大透過率は10nmの厚さで得られた。次に,上部AZO膜を室温/50°Cに分割した。上部AZOが50°Cで形成されると,既に堆積したAgは熱酸化により影響される。Agは,室温で上部AZOを最初に堆積させ,次に50°Cを適用することにより,熱酸化から保護され,透過率と抵抗率の改善をもたらした。さらに,Ag層中の酸素含有量の減少により,Ag層の堆積速度を増加させることにより,抵抗率と透過率を改善した。形成された薄膜の中で,最良の得られた特性は1.24×10~4Ωcmの抵抗率と84.8%の透過率であった。Copyright 2020 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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固体デバイス製造技術一般  ,  酸化物薄膜 
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