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J-GLOBAL ID：202002218076835904   整理番号：20A1235581

粉末ターゲットを用いた背面照射パルスレーザ蒸着法による二次元薄膜の作製

Preparation of two-dimensional thin films by backside irradiation pulsed laser deposition method using powder target

著者 (6件)： Kawasaki Hiroharu (National Institute of Technology, Sasebo College, Sasebo, Nagasaki 857-1193, Japan) ,  Ohshima Tamiko (National Institute of Technology, Sasebo College, Sasebo, Nagasaki 857-1193, Japan) ,  Yagyu Yoshihito (National Institute of Technology, Sasebo College, Sasebo, Nagasaki 857-1193, Japan) ,  Ihara Takeshi (National Institute of Technology, Sasebo College, Sasebo, Nagasaki 857-1193, Japan) ,  Shinohara Masanori (National Institute of Technology, Sasebo College, Sasebo, Nagasaki 857-1193, Japan) ,  Suda Yoshiaki (National Institute of Technology, Ishikawa College, Tsubata, Ishikawa 929-0392, Japan)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 59  号： SA  ページ： SAAC01 (5pp)  発行年： 2020年01月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,背面照射のパルスレーザ蒸着(PLD)により二次元薄膜を調製した。このために,石英ガラスで作られた手製の透明ターゲットホルダーを用いて粉体ターゲットを保持した。ホルダー側から基板に可視波長パルスレーザを照射した。この新しい方法を用いて,インジウム(In)と亜鉛(Zn)濃縮薄膜をシリコン基板上に調製した。この方法で調製した膜の堆積速度を,調製した膜の最も厚い位置と堆積時間から計算した。堆積速度は通常のPLDにより調製した膜よりも低かった。背面照射PLDで調製した膜の二次元プロフィルは凸形を示し,その空間分解能はレーザプロファイルに強く依存した。X線光電子分光測定から,In₂O₃とZnO粉末ターゲットを用いてこの方法でInとZn組成薄膜を調製できることを示唆した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *パルスレーザ蒸着 ,  ターゲット ,  *金属粉末 ,  亜鉛 ,  パルスレーザ照射 ,  二次元 ,  *金属薄膜 ,  X線光電子分光法 ,  ウエハ【IC】 ,  ケイ素 ,  インジウム ,  石英ガラス ,  空間分解能 ,  スペクトロスコピー ,  堆積速度 ,  酸化イリジウム ,  亜鉛粉末 ,  背面 ,  シリコンウエハ
準シソーラス用語： シリコン基板

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (6件)： 粉末 ,  ターゲット ,  背面 ,  パルスレーザ蒸着 ,  薄膜 ,  作製