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J-GLOBAL ID：202002218563248902   整理番号：20A0007780

CrN/Cr多層膜における{112}方位CrN層の残留応力測定【JST・京大機械翻訳】

Residual stress measurement of {112}-oriented CrN layers in CrN/Cr multilayer films

著者 (4件)： Kusaka Kazuya (Institute of Technology and Science, Tokushima University, 2-1, Minamijosanjima, Tokushima, Tokushima 7708506, Japan) ,  Shirasaka Kenta (Graduate School of Advanced Technology and Science, Tokushima University, 2-1, Minamijosanjima, Tokushima, Tokushima 7708506, Japan) ,  Yonekura Daisuke (Institute of Technology and Science, Tokushima University, 2-1, Minamijosanjima, Tokushima, Tokushima 7708506, Japan) ,  Tanaka Yuta (Materials Department, Research Laboratory, IHI Corporation, 1, Shin-nakahara-cho, Isogo-ku, Yokohama, Kanagawa 235-8501, Japan)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 37  号： 6  ページ： 062919-062919-6  発行年： 2019年 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 2166-2746  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,CrN/Cr多層薄膜中の{112}配向窒化クロム(CrN)層の残留応力を測定する方法を提案し,検証した。アークイオンプレーティングによりTi6Al4V基板上に堆積したCrN/Cr多層膜のCrN層はランダムに配向した混合結晶構造と{112}配向構造の両方を形成する。したがって,CrN層の正確な応力測定は,等方性均一材料を仮定したsin2ψX線法を適用することによっては実行できない。この障害を克服するために,残留応力を測定するために提案した方法は,4つのCrN-422回折を用いる。すなわち,ψ=0°,33.56°,48.19°,および60.00°である。次に,CrN/Cr多層膜における残留応力に如何に影響するかを評価するために,膜表面上のCr液滴の密度を変化させた。結果は,Cr層が-350から-530MPaの残留圧縮応力を持ち,2つのCrN層が-3.5から-8.2GPaの非常に大きな残留圧縮応力を持つことを示した。さらに,残留圧縮応力は液滴密度の増加とともに減少した。Copyright 2020 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 液滴 ,  応力測定 ,  固溶体 ,  等方性 ,  *クロム ,  *多層膜 ,  回折 ,  *残留応力 ,  残留圧縮応力 ,  窒化クロム ,  真空アーク蒸着 ,  計測
準シソーラス用語： アークイオンプレーティング , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (5件)： Cr ,  多層膜 ,  方位 ,  残留 ,  応力測定