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J-GLOBAL ID：202002219146881891   整理番号：20A1395303

ナノビームW-RHEEDによるマイクロパターンを施したSi(110)基板の表面構造解析

Surface structure analysis of micropatterned Si(110) by nano-beam Weissenberg Reflection High-Energy Electron Diffraction

著者 (5件)： 中塚聡平 (東北大多元研) ,  今泉太志 (東北大多元研) ,  虻川匡司 (東北大多元研) ,  服部梓 (阪大産研) ,  田中秀和 (阪大産研)
資料名： 日本表面真空学会学術講演会要旨集(Web)
巻： 2019  ページ： 1Ca09S(J-STAGE)  発行年： 2019年 
JST資料番号： U1883A  ISSN： 2434-8589  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： マイクロ・ナノ構造の表面構造解析を行うため我々が開発したSEMとW-RHEEDを組み合わせた手法を用い,マイクロパターンを施した二種類のSi(110)基板表面の構造解析を行った。その結果マイクロロッド上面および底面(110)面上に存在する二種類の等価なドメインの比率が一方のドメインに偏っていることや,マイクロロッド隅部分に微小斜面が形成されていることなど特徴的なマイクロ構造の変化が確認された。(著者抄録)

シソーラス用語： *RHEED ,  ケイ素 ,  結晶 ,  *結晶面 ,  パターン形成 ,  走査電子顕微鏡 ,  結晶構造解析 ,  *表面構造
準シソーラス用語： *シリコン結晶 ,  *ミクロパターン形成

分類 (1件)： 固体の表面構造一般  (BK15010E)

タイトルに関連する用語 (4件)： ナノビーム ,  マイクロパターン ,  Si ,  構造解析