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J-GLOBAL ID:202002219899748021   整理番号:20A1353895

ナイロン6顆粒の物理蒸着により調製した1アミド薄膜【JST・京大機械翻訳】

One-Amide Thin Films Prepared by Physical Vapor Deposition of Nylon-6 Granules
著者 (4件):
資料名:
巻:号:ページ: 1746-1753  発行年: 2020年 
JST資料番号: W5670A  ISSN: 2637-6105  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本論文は,ナイロン6の成形プロセスがナノスケールで技術的に困難であるという事実にもかかわらず,ナイロン6顆粒からの1アミド薄膜の成功した調製を報告する。分子ビームエピタクシー装置を物理蒸着(PVD)に用いた。得られた薄膜をRamanスペクトルとX線回折分析で調べ,その結果をPVD源として用いたナイロン6粒子と比較した。主構造は類似しているが,ナイロン6のγ相は堆積膜でのみ観察された。堆積時間を変えることによって,20から100nmの範囲の種々の厚さを得た。これらをX線反射率分析と走査プローブ顕微鏡で調べた。堆積速度は薄膜の品質に強く影響することが分かった。堆積アミド薄膜の温度安定性をオペランドX線反射率測定で調べた。周囲条件下で10から70°Cまでの温度走査の間,温度が28°C以下のとき,1.7%の最大厚さ減少が起こった。28°C以上では,Nylon-6バルクのガラス転移は約47°Cで起こるが,熱膨張係数には明確な変化は無かった。水分制御実験は,いくつかの膨潤が堆積アミド薄膜中の非晶質領域で起こることを明らかにした。分子量とγ結晶形の減少は,堆積したアミド薄膜中の分子の移動度に寄与した。Copyright 2020 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
分類
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酸化物薄膜  ,  光物性一般 

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