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J-GLOBAL ID：202002222049127724   整理番号：20A2080963

アイソタクティックポリプロピレンの高温溶融状態におけるメモリー効果と結晶融解構造に関する研究(III)

Studies of Memory Effects at the Temperature Much Higher than Melting Point and Melt Structures in Isotactic Polypropylene(III).

著者 (2件)： 山下友義 (三菱ケミカル) ,  伊村宏之 (三菱ケミカル)
資料名： SPring-8/SACLA利用研究成果集(Web)  (SPring-8/SACLA Research Report (Web))
巻： 8  号： 2  ページ： WEB ONLY  発行年： 2020年08月21日 
JST資料番号： U1844A  ISSN： 2187-6886  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： アイソタクティックポリプロピレンの昇温過程(50°C~200°C)におけるWAXS/SAXS同時測定を行い,結晶の融解過程における詳細な解析を実施した。その結果,ラメラ間周期長の逆数プロットから142°C付近が結晶融解の開始点となっていることを示した。また,ラメラ晶の融解が進むにつれて,融点よりも低い温度領域からラメラの融解に起因したGuinier関数で記述されるドメイン構造が発達してくることを示した。そして,このドメイン構造は,結晶融解に関わるDSCの吸熱反応が検出できないレベルの温度(172.5°C)を超える180°Cにおいても,なおも未溶解の微結晶や強固な3₁螺旋の凝集体を中心にしたと思われる長周期を有する秩序的ドメイン構造の多くが残存していること,さらに高温域の190°Cにおいても,このドメイン構造は明確に存在するが,長周期的相関の無い秩序を失ったドメイン構造へと変化することを明らかにした。(著者抄録)

シソーラス用語： *ポリプロピレン ,  *融解 ,  *ラメラ ,  微結晶 ,  凝集体 ,  構造 ,  記憶効果 ,  X線散乱 ,  大角散乱 ,  小角X線散乱 ,  放射光施設
準シソーラス用語： SAXS【散乱】 ,  SPring-8 ,  WAXS ,  ドメイン構造 ,  メモリ効果 ,  ラメラ晶

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  物理的性質一般  (YH02021U)

引用文献 (3件)：

• G. Strobl, Eur. Phys. J., E3, 165 (2000).
• J. Ilavsky and P. R. Jemian, J. Appl. Cryst., 42 (2), 347 (2009).
• K. R. Reddy et al., Macromolecules, 42 (12), 4191 (2009).

タイトルに関連する用語 (6件)： アイソタクティックポリプロピレン ,  溶融状態 ,  メモリー効果 ,  結晶 ,  融解 ,  研究