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J-GLOBAL ID：202002228175261380   整理番号：20A1235637

強誘電体マイクロプレート構造を用いた有機金属化学気相成長法によるマイクロピラー型マルチフェロイック複合薄膜の作製と特性評価

Fabrication and characterization of micropillar-type multiferroic composite thin films by metal organic chemical vapor deposition using a ferroelectric microplate structure

著者 (11件)： Migita Tsubasa (Department of Chemical Engineering and Materials Science, Graduate School of Engineering, University of Hyogo, Himeji, Hyogo 671-2201, Japan) ,  Kobune Masafumi (Department of Chemical Engineering and Materials Science, Graduate School of Engineering, University of Hyogo, Himeji, Hyogo 671-2201, Japan) ,  Ito Ryoga (Department of Chemical Engineering and Materials Science, Graduate School of Engineering, University of Hyogo, Himeji, Hyogo 671-2201, Japan) ,  Obayashi Taiki (Department of Chemical Engineering and Materials Science, Graduate School of Engineering, University of Hyogo, Himeji, Hyogo 671-2201, Japan) ,  Kikuchi Takeyuki (Department of Chemical Engineering and Materials Science, Graduate School of Engineering, University of Hyogo, Himeji, Hyogo 671-2201, Japan) ,  Fujisawa Hironori (Department of Electrical Engineering and Computer Science, Graduate School of Engineering, University of Hyogo, Himeji, Hyogo 671-2201, Japan) ,  Kanda Kensuke (Department of Electrical Engineering and Computer Science, Graduate School of Engineering, University of Hyogo, Himeji, Hyogo 671-2201, Japan) ,  Maenaka Kazusuke (Department of Electrical Engineering and Computer Science, Graduate School of Engineering, University of Hyogo, Himeji, Hyogo 671-2201, Japan) ,  Nishioka Hiroshi (Department of Chemical Engineering and Materials Science, Graduate School of Engineering, University of Hyogo, Himeji, Hyogo 671-2201, Japan) ,  Fukumuro Naoki (Department of Chemical Engineering and Materials Science, Graduate School of Engineering, University of Hyogo, Himeji, Hyogo 671-2201, Japan) ,  Yae Shinji (Department of Chemical Engineering and Materials Science, Graduate School of Engineering, University of Hyogo, Himeji, Hyogo 671-2201, Japan)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 59  号： SC  ページ： SCCB10 (5pp)  発行年： 2020年02月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 強誘電体ピラー材料としてマイクロプレート状の軸配向エピタキシャル(Bi_3.25Nd_0.65Eu_0.10)Ti₃O₁₂(BNEuT)薄膜を用いて,金属有機化学蒸着法によりマイクロピラー型CoFe₂O₄(CFO)/BNEuT(h00)/Nb:TiO2(101)複合マルチフェロイック膜を作製した。成膜時間は90~150分とし,膜の構造,強誘電性,強磁性特性への影響を調べた。成膜されたCFO膜はいずれも立方体の逆スピネル構造を持つ単相コバルトフェライトであった。成膜されたCFO膜は,同様の柱状構造を有し,ステップカバレッジは37%~66%と比較的良好であった。室温磁化-磁場ヒステリシスループは明らかな強磁性ヒステリシスループを示し,堆積時間の増加とともに保磁力は1.1kOeから0.9kOeに低下した。室温分極-電界ヒステリシスループは強誘電ヒステリシスループを示し,リーク電流の影響は成膜時間120分で最も小さくなった。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *強誘電体 ,  *MOCVD ,  *微細構造 ,  *磁性体 ,  複合膜 ,  薄膜 ,  強誘電性 ,  強磁性 ,  膜構造 ,  スピネル型結晶 ,  コバルト化合物 ,  フェライト ,  構造 ,  被覆率 ,  曲線 ,  磁化 ,  保磁力 ,  ヒステリシス ,  漏れ電流 ,  エピタキシャル膜 ,  コバルトフェライト ,  柱状構造 ,  ヒステリシスループ ,  分極ヒステリシス ,  *磁性強誘電体 ,  スピネル型構造
準シソーラス用語： *有機金属化学気相成長法 ,  *マイクロピラー ,  *マルチフェロイック ,  スピネル構造 ,  ステップカバレッジ ,  リーク電流

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (8件)： 強誘電体 ,  マイクロプレート ,  有機金属化学気相成長法 ,  マイクロピラー ,  マルチフェロイック ,  薄膜 ,  作製 ,  特性評価