ARAFUNE Koji について
Univ. Hyogo, Hyogo, JPN について
KITANO Sho について
Univ. Hyogo, Hyogo, JPN について
YOSHIDA Haruhiko について
Univ. Hyogo, Hyogo, JPN について
OGURA Atsushi について
Meiji Univ., Kawasaki, JPN について
HOTTA Yasushi について
Univ. Hyogo, Hyogo, JPN について
Japanese Journal of Applied Physics について
ケイ素 について
ウエハ【IC】 について
酸化アルミニウム について
不動態皮膜 について
電気的性質 について
焼なまし について
速度 について
キャリア捕獲 について
電荷 について
キャリア寿命 について
容量電圧特性 について
変化 について
エリプソメータ について
反射率 について
放射光施設 について
表面構造 について
界面トラップ について
固定電荷 について
構造変化 について
X線反射率 について
SPring-8 について
界面構造 について
結晶性シリコン について
シリコンウエハ について
化成皮膜 について
構造 について
結晶シリコン について
シリコン基板 について
不動態化膜 について
ポストアニール処理 について
表面再結合速度 について
表面の電子構造 について
結晶 について
シリコン基板 について
酸化アルミニウム について
不動態化膜 について
電気的性質 について
堆積 について
アニーリング について